特種氣體主要有電子氣體、高純氣體和標準氣體三種，廣泛應用于電子半導體、化工、醫療、環保裝備制造等L域。到目前為止，特種氣體中單元純氣體共有260種。下面為您做詳細介紹：
1、氮氣-N2,純度要求>99.999%,用作標準氣、在線儀表標準氣、校正氣、零點氣、平衡氣；用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入、等離子干刻、光刻、退火、搭接、燒結等工序；電器、食品包裝、化學等工業也要用氮氣。
2、氧氣-O2,>99.995%,用作標準氣在線儀表標準氣、校正氣、零點氣；還可用于醫療氣；在半導體器件制備工藝中用于熱氧化、擴散、化學氣相淀積、等離子干刻等工序；以及用于光導纖維的制備。
3、氬氣-Ar,>99.999,用作標準氣、零點氣、平衡氣；用于半導體器件制備工藝中晶體生長、熱氧化、外延、擴散、氮化、噴射、等離子干刻、載流、退火、搭接、燒結等工序；特種混合氣與工業混合氣也使用氫。
4、氫氣-H2,>99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、在線儀表標準氣；在半導體器件制備工藝中用于晶休生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等工序；在化學、冶金等工業中也有用。
5、氦氣-He,>99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、醫療氣；于半導體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、載流等工序；另外,特種混合氣與工業混合氣也常用。
6、氯氣-Cl2,>99.96%,用作標準氣、校正氣；用于半導體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、熱氧化等工序；另外,用于水凈化、紙漿與紡織品的漂白、下業廢品、污水、游泳池的衛生處理；制備許多化學產品。
7、氟氣-F2,>98%,用于半導體器件制備工藝中等離子干刻；另外,用于制備六氟化鈾、六氟化硫、三氟化硼和金屬氟化物等。
8、氨氣-NH3,>99.995%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用于半導體器件制備工藝中氮化工序；另外,用于制冷、化肥、石油、采礦、橡膠等工業。
9、氯化氫-HCI,>99.995%,用作標準氣；用于半導體器件制備工藝中外延、熱氧化、擴散等工序；另外,用于橡膠氯氫化反應中的化學中間體、生產乙烯基和烷基氯化物時起氧氯化作用。
10、一氧化氮-NO,>99%,用作標準氣、校正氣；用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積主序；制備監控大氣污染的標準混合氣。
11、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作標準氣、在線儀表標推氣、校正氣；于半導體器件制備工藝中氧化、載流工序警另外,還用于特種混合氣、發電、氣體置換處理、殺菌氣體稀釋劑、滅火劑、食品冷凍、金屬冷處理、飲料充氣、煙霧噴射劑、食品貯存保護氣等。
12、氧化亞氮-N2O,(即笑氣),>99.999%,用作標準氣、醫療氣；用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積、醫月麻醉劑、煙霧噴射劑、真空和帶壓檢漏；紅外光譜分析儀等也用。
13、硫化氫-H2S,>99.999%,用作標準氣、校正氣；用于半導體器件制備工藝中等離子干刻,化學工業中用于制備硫化物,如硫化鈉,硫化有機物；用作溶劑；實驗室定量分析用。
14、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作標準氣；用于半導體器件制備工藝中外延丫、化學氣相淀積等工序；另外,用作溶劑、有機物的氯化劑、香料的浸出劑、纖維的脫脂劑、滅火劑、分析試劑、制備氯仿和藥物等。
15、氰化氫-HCN,>99.9,用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序；制備氫氰酸溶液,金屬氰化物、氰氯化物；也用于制備丙烯睛和丙烯衍生物的合成中間體。
特種氣體，氣體工業名詞，是指那些在特定L域中應用的，對氣體有特殊要求的純氣，高純氣或由高純單質氣體配制的二元或多元混合氣。門類繁多，通常可區分為電子氣體，標準氣，環保氣，醫用氣，焊接氣，殺菌氣等，廣泛用于電子，電力，石油化工，采礦，鋼鐵，有色金屬冶煉，熱力工程，生化，環境監測，醫學研究及診斷，食品保鮮等L域。特種氣體用途及應用行業介紹如下。
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