沃爾福2000℃真空燒結爐采用石墨加熱,加熱溫度可達2000℃。
2000℃真空燒結爐可在同一爐體內實現真空、脫脂、預燒結,生產工序一次性完成,較好的提高生產效率和產品質量。可實施在氬氣、氮氣和還原性氣分保護下低壓力燒結,減少元素揮發損失。
一、主要應用領域
1、硬質合金、CIM、MIM等可進行脫蠟,脫氣,燒結及連續處理。
2、非氧化物系列陶瓷,氮化硅,碳化硅,可進行脫蠟,脫氣,燒結及連續處理。
3、石墨,脫氣,提純的連續處理。
二、產品特點
1、根據爐溫高低和工藝要求,采用石墨發熱體及隔熱屏。發熱體可分成多區布置;各區獨立控溫,可編程PID調節溫度精確均勻。
2、采用石墨加熱元件、石墨氈隔熱層,設計溫度可達2200℃,加熱溫度均勻性高,壽命長。
3、充氣流量控制,爐內壓力控制裝置,實現微負恒壓燒結,抑制金屬揮發損失,改善產品致密性及質量。
4、具有安全互鎖、故障診斷和異常報警等功能。
三、技術參數
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