目錄:沈陽科晶自動化設備有限公司>>薄膜生長設備>>薄膜生長輔助設備>> TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀
| 產地類別 | 國產 |
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TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀是一款利用反射光譜測試薄膜厚度的儀器，可快速精確地測量透明或半透明薄膜的厚度而不損傷樣品表面的薄膜，是一款無損測厚儀，其測量膜厚范圍為15nm-50um，測量膜厚范圍廣，尤其適用于超薄薄膜厚度的測量。儀器所發出測試光的波長范圍為400nm-1100nm，波長范圍廣，因此，測試薄膜厚度的范圍廣。TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀測試系統的理論基礎為鏡面光纖反射探頭，該儀器尺寸小巧可節省實驗室空間，操作方便，讀數直觀，方便于在實驗室中擺放和使用。
產品型號 | TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀 |
測量膜厚范圍 | 15nm-50um |
光譜波長 | 400 nm - 1100 nm |
主要測量透明或半透明薄膜厚度 |
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特點 |
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精度 | 0.01nm或0.01% |
準確度 | 0.2%或1nm |
穩定性 | 0.02nm或0.02% |
光斑尺寸 | 標準3mm,可以小至3um |
要求樣品大小 | 大于1mm |
分光儀/檢測器 | 400 - 1100 nm 波長范圍 光譜分辨率: < 1 nm 電源 100-250 VAC, 50/60 Hz 20W
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光源 | 5W的鎢鹵素燈 色溫：2800K 使用壽命:1000小時 |
反射探針 | 光學纖維探針，400um纖維芯 配有分光儀和光源支架 |
載樣臺 | 測量時用于放置測量的樣品
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通訊接口 | USB接口，方便與電腦對接
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TFCompanion軟件 | 強大的數據庫包含兩500多種材料的光學常數（n：折射率，K：消失系數）
誤差分析和模擬系統，保證在不同環境下對樣品測量的準確性 可分析簡單和復雜的膜系
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設備尺寸 | 200x250x100mm |
重量 | 4.5kg |
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