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目錄:沈陽科晶自動化設備有限公司>>真空鍍膜機>>磁控濺射鍍膜>> VTC-16PW小型粉末PVD包覆系統

小型粉末PVD包覆系統
  • 小型粉末PVD包覆系統
  • 小型粉末PVD包覆系統
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 VTC-16PW
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 沈陽市
屬性

產地類別:國產

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更新時間:2019-01-31 12:54:36瀏覽次數:1913評價

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產地類別 國產
小型粉末PVD包覆系統VTC-16PW是一款小型粉末包覆系統,主要有2英寸磁控濺射頭和振動樣品臺組成。粉末在振動樣品臺上振動翻滾,通過濺射在粉末表面進行包覆形成核殼結構。直流磁控濺射適合粉體表面包覆金屬材料.射頻磁控濺射適合材料表面包覆非金屬材料或碳。(更新日期2019.1.10)

 

產品型號

小型粉末PVD包覆系統VTC-16PW

產品特點

1、可對粉體材料進行表面包覆:采用磁控濺射,濺射時粉體材料在振動樣品臺上翻滾,達到粉體表面均勻包覆

2、設備小巧可在手套箱內使用,可處理樣敏感性材料

技術參數

1、輸入電壓:220 VAC 50/60Hz

2、電源輸出:1600 VDC 250 W

3、大電流:150 mA .

4、濺射頭:2英寸角度可調節濺射頭

5、振動樣品臺:

樣品臺振動頻率可調節:6-33Hz

樣品臺直徑為50mm

建議樣品量: < 500 mg

建議顆粒尺寸: 1 ~ 1000um

石英腔體尺寸:165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H

6、真空度:

①1.0E-2 Torr(采用機械泵),可濺射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶

② 1.0E-5 Torr(采用分子泵),可濺射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金屬靶大真空度可達到< 4.0E-6 Torr(分子泵系統抽時間12小時,腔體進行烘烤)

7、CE認證

產品規格

外形尺寸:長460×寬330×高810mm  凈重:20Kg

注意事項

警告:

1、濺射頭與高壓電源相連接,操作時必須佩帶防護手套

2、濺射前必須確保靶材,濺射頭,基片和樣品臺清潔,需要用砂紙和乙醇來清洗,Al或是Ni靶每次使用時都必須清洗和處理

注意:粉末樣品必須干燥和分散

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