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愛(ài)安德介紹什么是半導(dǎo)體曝光設(shè)備？
半導(dǎo)體曝光設(shè)備是半導(dǎo)體制造過(guò)程中用于在硅片上繪制電路圖案的設(shè)備。強(qiáng)大的紫外光透過(guò)光掩模，作為電路圖案的原型，電路圖案被轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的硅晶片上。近年來(lái)，一些設(shè)備使用波長(zhǎng)為 13 nm 的激光（稱(chēng)為 EUV）來(lái)微型化精細(xì)電路圖案。由于定位等要求精度，因此設(shè)備價(jià)格昂貴。
全球電子設(shè)備市場(chǎng)持續(xù)擴(kuò)大，支撐其的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)變得越來(lái)越重要。盡管2019年全球半導(dǎo)體市場(chǎng)經(jīng)歷了負(fù)增長(zhǎng)，但盡管過(guò)去經(jīng)歷過(guò)雷曼沖擊，但仍持續(xù)擴(kuò)張。近年來(lái)，存儲(chǔ)器的技術(shù)發(fā)展從小型化轉(zhuǎn)向3D技術(shù)，蝕刻技術(shù)的重要性日益增加。
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