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電子束光刻設備是半導體光掩模生產中利用電子束在光掩模毛坯（以下簡稱毛坯）上繪制電路圖形的設備。在存儲器、CPU等LSI的制造中，將分割為數十層的光掩模作為母板，使用曝光裝置將光掩模上的圖案轉印到晶圓上來制作電路。光掩模的質量對LSI良率影響最大。因此，在光掩模上繪制圖案的電子束光刻設備可以說是LSI制造中最重要的設備之一。電子束光刻設備的應用電子束光刻設備用于在制造光掩模以及制造MEMS等納米技術產品時在毛坯上繪制電路圖案。在LSI制造過程中，掩模制造涉及將設計過程中創建的電子文件上的圖案數據轉
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ALD（沉積）設備是利用原子層沉積形成納米級薄膜的設備。由于薄膜是按原子逐層形成的，因此具有精確的膜厚可控性和精確的階梯涂布性能。但缺點是成膜速度慢。ALD成膜中使用了許多有機金屬材料，但其中許多材料對人體有負面影響，并且高度易燃。處理需要專業知識和極其小心。ALD設備的應用ALD設備常用于半導體生產工藝、FPD生產工藝等。近年來，這項技術已成為DRAM生產中的一部分。以下是使用ALD裝置形成的薄膜的例子。1.柵極氧化膜形成FET等晶體管時必需的具有高介電常數的薄膜。主要采用Al2O3、ZrO2
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超連續譜光源（SC光源）又稱超連續譜激光器，是發射特殊激光的光源。激光是指具有相同相位的光，即相干光。普通激光器發射單一波長的光，但SC光源是多波長激光光源，可在很寬的波長范圍內同時發射多束相位對齊的光。據說，當不同波長的光重疊時，光會變成白色。SC光源發出的激光是相干光，由于包含各種波長的光，因此被稱為白激光。SC光源通過將極短的納秒或皮秒周期的強大脈沖激光穿過光纖電纜來產生這種光。超連續譜光源的應用SC光源發出較寬波長范圍的相位對準光，因此被用于光學相干斷層掃描（OCT）、共焦顯微鏡、熒光成
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高側驅動器是電子電路中使用的電路結構，是驅動電源與負載之間的開關元件的驅動器。被驅動的開關元件稱為高側開關，控制高側開關來接通/斷開電源以及向負載提供或斷開電流。另一方面，驅動負載和接地之間的開關元件的驅動器稱為低側驅動器。為了將電流傳遞到各種負載，高側驅動器和低側驅動器各自具有各自的電路特性。高邊驅動器的使用高側驅動器廣泛應用于電子電路中。通常用于逆變器、電源開/關電路、LED驅動器以及電機和螺線管等感性負載驅動器。高側驅動器通常用于向負載流過大電流，因此在設計時需要考慮浪涌電流對策和反向電流
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HID泛光燈是高亮度放電泛光燈的總稱，區別于采用LED作為光源的照明。HID泛光燈使用多種類型的光源，包括汞、金屬鹵化物和鹵素。HID是高強度放電的縮寫。另一方面，泛光燈是一種利用反射鏡或透鏡向特定方向發出強光的照明裝置。每種光源都有不同的特性，例如壽命和功耗，因此選擇適合您的預期用途的光源非常重要。HID泛光燈的應用泛光燈的特點是發光強度大、亮度高。由于可以自由確定光的發射方向，因此它用于需要將照射位置調整到任意位置的地方，而不是用于照射位置固定的地方，例如路燈。但根據使用目的，HID泛光燈會
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旋轉激光器是一種使用激光的整平裝置。名稱因制造商而異，有時也稱為激光水平儀。找平就是把東西找平，是建筑工地上非常重要的一道工序。如果地板和窗框不水平，建筑物的結構就不干凈。旋轉激光器在旋轉時發射激光束，并且可以通過接收器接收來輕松調平。可在戶外大面積或傾斜區域使用。旋轉激光器的應用使用旋轉激光器進行調平。首先，安裝旋轉激光器，并在大范圍內旋轉的同時發射激光。通過在要檢查水平度的位置安裝接收器并接收激光束，可以輕松完成調平。使用旋轉激光器可以讓一個人同時工作和測量多個位置。確認水平度后，即可檢查混
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模具溫度控制器是在注塑、擠出成型和其他塑料制品成型過程中保持模具溫度恒定的裝置。模具的溫度不僅受季節波動的影響，還受到早晚溫差的影響。為了穩定成型產品的質量，需要使用模具溫度控制器來保持模具溫度恒定。它也類似于模具冷卻器。模具冷卻機專門通過循環冷水來降低模具的溫度。另一方面，模具溫度控制器不僅使用水，還使用油作為循環介質，不僅在低溫下，而且在100°C以上的溫度下也能保持恒定的模具溫度。模溫機的應用模具溫度過高或過低對成型制品的質量影響很大。模具溫度低會造成流痕、裂紋、光澤差等現象。另一方面，如
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導熱片是指導熱性能優良的片材，也稱為散熱片。它們通常由有機硅或丙烯酸等樹脂制成，并與金屬填料復合以提高導熱性。還有一些產品含有陶瓷填料并強調電絕緣性。由于它是片狀的，因此具有柔韌性和優異的粘合性，并且由于能夠傳遞來自高發熱元件的熱量，因此還具有阻燃性等特性。導熱片的應用它們被夾在安裝在各種電器中的IC芯片和電池等發熱元件與散熱器等散熱元件之間使用。由于其粘合性較輕，因此可以按原樣保持加熱元件和散熱部件，但為了充分發揮性能，粘合性很重要，因此通常使用與其他部件的保持結構。向壓縮導熱片的方向施力的方
