目錄:北京鴻瑞正達科技有限公司>>薄膜材料生長成套設備>> 4路質子混氣管式PECVD系統
產品簡介： 4 路質子混氣管式 PECVD 系統是為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活 性來促進反應，環境溫度在 100℃-300℃，但反應氣體在輝光放電等離子體中能受激分解、離解和離化，從 而大大提高了反應物的活性， 這些具有反應活性的中性物質很容易被吸附到較次溫度的基本表面上， 發生 非平衡的化學反應沉積生成薄膜，因此這種 CVD 稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD）。
產品型號 | 4 路質子混氣管式 PECVD 系統 |
安裝條件 | 本設備要求在海拔 1000m 以下， 溫度 25℃±15℃ ，濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水：不需要 2、電： AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氣體，需自備氣瓶氣源 4、工作臺： 尺寸 1600mm×600mm×700mm ，,承重 150kg 以上 5、通風裝置：需要 |
主要特點 | 1、內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率，同時也可以延長儀 器的使用壽命。 2 、輝光放電等離子體中電子密度可達 109cm3-1012cm3。 3 、電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出 10-100 倍。 4、配有高精度數字顯示質量流量計，可準確地控制氣體流量。 |
5、一個氣體混氣罐的底部安裝了液體釋放閥。 6、不銹鋼針閥安裝在左側部分，可手動控制混合氣體的輸入。 |
7 、已通過 CE 認證。 | |
技術參數 | 管式爐 |
1、電源： AC220V 4KW 2、爐管： ?50mm ，?60mm ，?80mm 都可用 3、溫度控制器： 30 段高精度數字可編程溫度控制器 4、加熱區： 440mm 5、恒溫區： 150mm | |
等離子射頻電源 1、輸入功率： AC220V 1KW 2、輸出功率： 50W-500W 可調，±1% 3 、RF 頻率： 13.56MHz | |
4、噪聲：≤55DB 5、冷卻：風冷 | |
真空泵和質量流量計 1、真空度： 10-3torr 2、波紋管： KF25 系列 3、質量流量計： 0-200 ，誤差 0.02%，進氣口采用國際標準雙卡頭 | |
產品規格 | 尺寸： 管式爐 550mm×380mm×520mm ，供氣及真空系統 600mm×600mm×1250mm 重量： 120kg |
可選配件 | 防腐型數字式真空顯示計 |
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