VTC-50A旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī) 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-50A旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)供電系統(tǒng)采用了電機(jī)部分與控制部分分別使用獨(dú)立電源的方式，調(diào)速系統(tǒng)則采用了抗干擾性高的單片機(jī)進(jìn)行控制，使得轉(zhuǎn)數(shù)在高達(dá)1000-8...
VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī) 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)具有操作簡(jiǎn)單、清理方便，體積小巧等優(yōu)點(diǎn)，主要應(yīng)用于各大專(zhuān)院校、科研院所的實(shí)驗(yàn)室中進(jìn)行薄膜的生成過(guò)程
VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī) 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)具有操作簡(jiǎn)單、清理方便，體積小巧等優(yōu)點(diǎn)，主要應(yīng)用于各大專(zhuān)院校、科研院所的實(shí)驗(yàn)室中進(jìn)行薄膜的生成過(guò)程
VTC-200PV真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī) 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-200PV真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)適用于半導(dǎo)體、晶體、光盤(pán)、制版等表面涂覆工藝
VTC-100PA真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī) 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-100PA真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)適用于半導(dǎo)體、晶體、光盤(pán)、制版等表面涂覆工藝
VTC-100PA-UV型紫外光旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī) 參考價(jià)：面議
振動(dòng)樣品臺(tái) 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品詳細(xì)介紹：可適用于高真空條件下對(duì)粉體材料的表面包覆鍍膜實(shí)驗(yàn)(更新日期2019.1.11）產(chǎn)品型號(hào)振動(dòng)樣品臺(tái)產(chǎn)品特點(diǎn)1、振動(dòng)樣品臺(tái)安裝在真空腔體底部2、粉末放...
微型PECVD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：微型PECVD系統(tǒng)采用?3"×16"的石英腔體，內(nèi)部設(shè)有加熱圈對(duì)樣品進(jìn)行加熱，溫度可以達(dá)到400℃，且采用程序化控溫，系統(tǒng)還配有2通道混氣裝置和雙旋機(jī)...
鈣鈦礦鍍膜機(jī) 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)...
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開(kāi)發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜...
OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐是一款快速蒸發(fā)管式爐，專(zhuān)門(mén)用于PVD或CSS法制作薄膜
GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對(duì)氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al、Au等）和小分子的有機(jī)物
GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀主要應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室及進(jìn)行微小產(chǎn)品真空鍍膜工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)的單位
掩膜版 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品詳細(xì)介紹：適用于鍍膜設(shè)備的配套使用產(chǎn)品型號(hào)掩膜版主要特點(diǎn)不銹鋼材質(zhì)，需要根據(jù)客戶(hù)的實(shí)驗(yàn)要求加工定制
小型粉末PVD包覆系統(tǒng)（DC磁控濺射-振動(dòng)樣品臺(tái)）VTC-16PW 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品詳細(xì)介紹：小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW是一款小型粉末包覆系統(tǒng)，主要有2英寸磁控濺射頭和振動(dòng)樣品臺(tái)組成
VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-16-3HD3靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子薄膜濺射儀（直流普通型），控制面板采用觸摸屏模式，基片極限尺寸為2″，放置樣品的直徑為?50m...
GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進(jìn)行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達(dá)50mm，鍍膜厚度可...
GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀可對(duì)程序進(jìn)行設(shè)定，并精確控制溫度在200oC-1500oC（或者1200oC-~1700oC）的范...
GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理（直流二極濺射鍍膜是指在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產(chǎn)生的濺射效應(yīng)，使...
GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀特別適合對(duì)輕金屬如、Al、Mg、和Li等金屬的蒸鍍，這種鍍膜的方法主要是在真空條件下，加熱蒸發(fā)鎢絲舟...
GSL-1100X-SPC-16C濺射蒸鍍膜儀2 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：GSL-1100X-SPC-16C濺射蒸鍍膜儀配備了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能
VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀靶頭尺寸為2英寸，樣品臺(tái)與濺射頭之間的高度在30-80mm之間可以調(diào)節(jié)
SFM-8瑪瑙缽碾磨機(jī) 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：SFM-8瑪瑙缽碾磨機(jī)在瑪瑙研缽和研棒所形成的研磨運(yùn)動(dòng)中，對(duì)于固體顆粒的研磨機(jī)會(huì)都是均等的，所以研磨的微粉粒度非常均勻，且設(shè)定的一個(gè)合理的研磨時(shí)間，粗...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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