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利用結合脫溶劑裝置的O2-DRC模式ICP-MS分析高純硅介質中的雜質

閱讀:1566      發布時間:2020-03-20
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    電感耦合等離子體質譜儀技術在商業化無機元素分析設備中具備優良的檢測能力,因而成為超痕量無機元素分析儀市場上重要的設備。應用ICP-MS時,重要的挑戰是同量異位素干擾以及多原子離子干擾的發生及避免干擾技術的應用。PerkinElmer公司早開發出以結合AFT(軸向場技術)的DRC(動態反應池)去除干擾技術為基礎的Elan DRC Series ICP-MS后,多原子干擾問題得到了根本性的解決。近的DRC Cell技術在完善,已發展為UCT(通用池技術),延伸至PerkinElmer NexlON系列,目前仍被半導體市場用作有效的解決方案。隨著半導體生產現場化學藥品泄漏事故的頻發及人們對環境和工業安全意識的加強,逐漸開始強調取代DRC Cell技術中普遍使用的純氨氣反應氣的必要性。

    本應用的目的是確認能否使用對環境和人體無害的洋氣作為反應氣體,來代替半導體制造現場使用的純氨氣反應氣,應用于硅晶片分析等高純硅基體樣品分析領域。

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珀金埃爾默企業管理(上海)有限公司

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