Si晶片和化合物晶片的高速加熱裝置介紹
臺式燈加熱器 MILA-5050
該設備是一種臺式燈加熱設備,可以對最大 50 平方毫米的樣品進行熱處理。
自 MILA-5000 系列臺式燈加熱器作為樣品尺寸達 20 平方毫米的加熱裝置推出以來,已被許多客戶使用。 50 平方毫米,同時保持集成加熱爐、腔室和溫度控制器的緊湊型機身。
自 MILA-5000 系列臺式燈加熱器作為樣品尺寸達 20 平方毫米的加熱裝置推出以來,已被許多客戶使用。 50 平方毫米,同時保持集成加熱爐、腔室和溫度控制器的緊湊型機身。
用途
Si晶片和化合物晶片的高速加熱
光學CVD基板加熱等電子材料的高速加熱
玻璃基板、陶瓷、復合材料等的熱處理。
熱循環測試
金屬材料的退火
涂膜耐熱性評價
有機材料和樹脂的加熱和干燥
特征
熱處理可達到 50 平方毫米的樣品尺寸
最高溫度1200℃
可高速加熱和冷卻的紅外金像 臺式加熱裝置,集成加熱室和溫度控制器
您可以輕松設置溫度程序并從個人計算機輸入外部信號。
可以在個人電腦上顯示加熱過程中的溫度數據。
規格
溫度范圍 | 室溫~1200℃ |
---|---|
升溫速率 | 50℃/秒 |
樣品尺寸 | 正方形 50 或 φ 50 毫米 x 厚度 5 毫米 |
加熱氣氛 | 在真空中,在各種氣流中 |
* 真空排氣裝置是一個選項
* 加熱溫度因被加熱材料的紅外反射/吸收、熱容量和材料而異。
測量數據
① 500℃,Δt=3.2℃
② 800℃,Δt=0.6℃
③ 1000℃,Δt=4.2℃
④ 1200℃,Δt=2.6℃
相關產品
免責聲明
- 凡本網注明“來源:化工儀器網”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網絡有限公司-化工儀器網合法擁有版權或有權使用的作品,未經本網授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經本網授權使用作品的,應在授權范圍內使用,并注明“來源:化工儀器網”。違反上述聲明者,本網將追究其相關法律責任。
- 本網轉載并注明自其他來源(非化工儀器網)的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網站或個人從本網轉載時,必須保留本網注明的作品第一來源,并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內容、版權等問題,請在作品發表之日起一周內與本網聯系,否則視為放棄相關權利。