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半導體開發(fā)/制造及無塵室用露點儀的特點
在半導體開發(fā)/制造過程中，去除顆粒、水分和氧氣等干擾因素是一個主要問題。我們的露點計、溫濕度計和氧濃度計用于半導體制造、運輸和檢查等各種過程，以確認消除干擾。也用于除濕空氣（干燥空氣）的除濕和氮氣、氬氣、氦氣、氫氣等的氣體純度測量和管理。相反，一些過程需要高水分含量，在這個過程中進行露點測量以保持水分含量恒定。主要使用以下產(chǎn)品。
水分測量
(1) 將水分含量控制在極小量（ppb 至 1 位數(shù) ppm）的過程
? TK-100 電容式露點計（氧化鋁型），可測量低露點 -100° C (
2) 微量水分 (ppm) 由
? TE-660 露點儀（聚合物型）低露點為 -60°
C的過程控制
。（鏡面型）露點儀
④ 過程和無塵室需要相對濕度水平控制的
? 簡單的 EE060
⑤ 需要大量水分并需要控制恒定水分的過程
? 主要在高溫和高濕度下測量 EE33 帶防結(jié)露措施的溫濕度計
氧氣濃度測量
(1) 需要通過氫氣置換等去除氧氣的工序
? 2001LC 原電池式氧氣濃度計可以確認 1 ppm
以下
. 4100 型氧化鋯氧氣分析儀
風速計
(1) 潔凈室和制造設(shè)備中氣流很重要的過程
? 能夠測量微風的風速計
主要產(chǎn)品
TK-100
在線露點儀
技術(shù)測量暢銷書
TE-660
露點變送器
聚合物露點儀
MBW373
最高精度
型號201/2001LC
低價機型
EE33
適用于高濕度和惡劣環(huán)境的溫濕度計
EE060/061
低價型
相關(guān)產(chǎn)品
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