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緊湊、高性能、理想的研發臺式光刻設備介紹
該產品是一種節省空間且易于操作的掩模對準器，具有高性能和低成本，使其成為大學和企業實驗室的理想選擇。 該產品是同類產品中采用兩用顯微鏡和集成透鏡（照明系統）的產品，可實現高精度的對準和燃燒。
| 面罩尺寸 | 高達 □5” |
| 晶圓尺寸 | 最大φ4英寸 |
| 曝光照明 | 250W超高壓汞燈 |
| 光學方法 積分器透鏡方法 | |
| 不均勻照度±5%以下 | |
| 照度 20mW/cm2 （405nm） | |
| 有效曝光范圍 φ100mm | |
| 曝光：帶數字計時器的旋轉電磁閥驅動器 | |
| 曝光模式 | 軟接觸，硬接觸 |
| 分辨率 | 2μm（硬觸點） |
| 對齊范圍 | 雙顯微鏡 |
| 10 x 2x 物鏡 （N.A. 0.15 寬深 30mm） | |
| 物鏡間距 15~75mm | |
| 目鏡NWF10×（18 視野） | |
| 整體放大倍率：100x | |
| 晶圓臺 | XY載物臺行程±5mm |
| θ 旋轉行程 ±5° | |
| Z軸行程 0~4mm | |
| 對齊方式 | 通過晶圓平臺移動手動對準 |
| 對準精度 | ±3微米 |
| 安裝尺寸 | 735（寬）×490（深）×605（高）毫米 |
| 安裝重量 | 約90公斤 |
| 效用 | 電源 AC100V 15A 50/60Hz |
| 真空（壓力）21.3kPa（大氣壓以上-80kPa） | |
| N2 氣體或干燥空氣（壓力） 0.2 MPa 或更高 |
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