為了研究植物生長、產量和品質與光能利用的關系，需要調查植物冠層中的光能資源，測量植物冠層對光的截獲量。  在不成熟的過去，研究人員很難對技術進行測量和分析，這往往需要大量的時間和精力。  如今，隨著科學技術的發展，冠層分析儀已經被研究人員很好的使用。  從實際應用來看，該儀器仍然可以發揮很大的作用。  

首先，我們來說說直接測量和間接測量是如何進行的。  直接測量是測量所有葉片的葉面積，然后計算LAI。因為要測量的葉片都要剪掉，所以大部分都是破壞性測量，或者至少會干擾冠層和葉角的分布，從而影響數據的質量。直接測量費時費力。  間接測量是利用冠層結構與冠層內輻射和環境相互作用的耦合關系，通過冠層分析儀測量植物冠層的相關數據，通過植物冠層的傳輸模型推斷LAI。  

冠層分析儀通過處理圖像數據文件，如葉面積指數、光照間隙、間隙分布等，獲得冠層結構。  通過分析輻射數據的相關信息，可以計算出冠層截獲的PAR和冠層以下的輻射水平。  因此，與直接測量法相比，利用冠層分析儀測量冠層數據可以避免直接測量法帶來的大規模破壞植被的缺點。而且使用儀器進行測量操作具有方便、快捷、不受時間限制、獲取數據量大等優點，非常適合現代農業科研。目前，冠層分析儀廣泛應用于農業、園藝、林業的栽培、育種和植物群體比較與發展的研究和教學中，并在實際應用中發揮了作用。