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場發射掃描電鏡是一種高分辨率的電子顯微鏡，主要用于觀察和分析各種材料的表面形貌、微觀結構和化學成分。其工作原理主要包括以下幾個方面：
1、電子源：場發射掃描電鏡使用場發射電子槍作為電子源，這種電子槍能夠產生高亮度、高相干性的電子束。場發射電子槍的原理是利用強電場使得金屬的電子脫離束縛，形成電子束。這種方法產生的電子束具有很高的亮度和較小的能量分散，有利于提高成像分辨率。
2、電子光學系統：電子束經過一系列的電磁透鏡和光闌，進行聚焦、偏轉和整形，最終形成一個細小的探針。這個探針可以在樣品表面進行掃描，從而獲取樣品表面的形貌和結構信息。
3、掃描系統：掃描線圈控制電子束在樣品表面進行逐行掃描，每次掃描一行，然后向下移動一個像素的距離，繼續掃描下一行。這樣，整個樣品表面都會被電子束覆蓋到。掃描過程中，電子束與樣品相互作用，產生二次電子、背散射電子等信號。
4、信號檢測與成像：場發射掃描電鏡配備有多種探測器，用于收集不同種類的信號。其中，二次電子探測器主要用于收集二次電子，以獲取樣品表面的形貌信息；背散射電子探測器用于收集背散射電子，以獲取樣品的成分和晶體結構信息。這些信號經過放大、處理后，可以生成相應的圖像。
5、真空系統：為了確保電子束能夠在樣品表面產生足夠的信號，以及防止電子槍和樣品受到污染，需要維持一定的高真空環境。通常，真空度要求在10^-4帕斯卡以下。
總之，場發射掃描電鏡的工作原理是通過場發射電子槍產生高亮度、高相干性的電子束，經過電子光學系統聚焦、偏轉和整形，形成細小的探針。探針在樣品表面進行掃描，與樣品相互作用產生各種信號。這些信號被探測器收集并處理，最終生成反映樣品表面形貌、結構和成分信息的圖像。
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