徠卡顯微鏡—近代干涉測試技術

徠卡顯微鏡干涉原理在測試技術上的應用是大量的，其中有些已是我們所熟知的，本節介紹幾種近代光學測試領域里主要的雙光束干涉儀。闡明其光學系統原理及測試方法。

一、泰曼一格林干涉儀測試

泰曼一格林干涉儀實質上是邁克爾遜干涉儀的一種變型，在近代的光學檢驗領域里，它是一種很重要的儀器，如圖1—16所示。它的獨持的物理性質是：準單色點光源和透鏡Ll提供射的平面波（平行光束），干涉儀的一臂裝有參考反射鏡肘i，另一臂則裝上被測試的光學元件透鏡Lz使得全部通過孔徑的光都能進入位于12焦點處的觀察孔，所以能看到整個視場，即閉看到射I和肘z的任何一部分*干涉條紋可用目視觀察或用照相機（鏡頭應位于Lz的焦點處）軀干涉條紋拍攝下來進行分析。根據干涉條紋的變化，就可判斷被測光學元件的質量。連續輸d的氛一氖氣體激光器是一個很好的光源。輸出功率為1mw的氦一氖氣體激光器，就足以在窒個干涉場上產生明亮而清晰的干涉條紋。激光器高度的時間相干性，使泰曼干涉儀進行大光琶差的測試成為可能，它不僅能適應各種靜態測試的要求，也能適應大位移的動態測量。激光勞紋的高亮度，還能縮短對條紋照相的曝光時間，因而能減少不希望有的振動效應。使用激光氫的泰曼一格林干涉儀是光學檢測中zui有效的工具之一。固1—16中所示的儀器是檢驗透鏡的丟曼一格林干涉儀，其中球面鏡肘：的曲率中心相被測透鏡的焦點重合。如果待測透鏡沒有便差，那么，返回到分束器的反射波將仍是平面的。然而，如果被測透鏡有球差、望差或像散引定波陣面的變形，那么就會清楚地看到具有畸變的一幅干涉條紋圖，并且可把干涉條紋拍攝下習進行分析。若把6fz換成平面鏡，就可以檢驗許多別的光學元件．如梭鏡，光學平板等。在對這些條紋圖進行解釋之后，光學檢驗人員就可據此指導進一步的加工（修光圈）。在制造非常精密9光學系統，望運鏡，高空照相機等的時候，還可采用電子學方法來掃描干涉固，zui后的數據用食算機分析。計算機控制的描圖儀自動畫出表面的等高線圖，或者畫出被測元件產生畸變波陣目的三維透視圖。整個加工過程都可用這些力法來保證得到高質量的光學元件和光學系統。

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