Holmarc 的紫外激光刻寫系統是一種直接刻寫光刻系統，用于在涂有光刻膠層的基片上刻寫微幾何特征。這套無掩膜系統配備了強度可調的光纖耦合 405nm 激光器和伺服電機驅動的高精度 XY 平臺，并配有數控軟件，可書寫復雜的圖案。四倍電動轉塔配有不同的物鏡，可在聚焦點形成不同的光斑尺寸。配備了一個帶黃色 LED 照明的 300 萬像素攝像頭，用于聚焦樣品，以獲得最佳特征尺寸。用戶友好型軟件用于樣品基底的初始設置，數控軟件用于根據 dxf 繪圖文件繪制圖案。

                                                                                                    規格

  激光器：405 納米光纖耦合激光器

    聚焦模式 ：    基于顯微鏡物鏡

    光斑直徑：<10 微米（取決于物鏡放大倍率）

    強度：樣品位置處為 3mW

    聚焦：電動，軟件控制

    電動 XY-Theta 樣品平臺

    XY 行程：100 毫米 x 100 毫米

    XY 分辨率：1 微米

    單向重復性：3 微米

    定位精度：5 微米

    Theta 平臺分辨率：0.1 度

    重復性：0.1 度

    定位精度：0.1 度

    真空樣品夾頭

    鼻模 ：    四軸，電動，軟件控制

    軟件 ：    Mach3 CNC 軟件

    顯微鏡目標

    1. Infinity Plan 消色差 60X 物鏡

    N A : 0.75

    工作距離： 1.22 毫米

    2. Infinity Plan 100 倍消色差物鏡

    N A : 0.85

    工作距離：0.4 毫米