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X射線鍍層測厚儀對電鍍層厚度檢測

來源:上海精誠興儀器儀表有限公司   2014年11月25日 12:34  

 

電鍍鍍層行業(yè)中,電鍍鍍層厚度是產(chǎn)品的zui重要質(zhì)量指標(biāo), X射線鍍層測厚儀是檢測電鍍層厚度*儀器。X射線鍍層測厚儀作為一種測量鍍層厚度的精密儀器,在整個電鍍層厚度品質(zhì)檢測中占非常重要的地位。它在電鍍層厚度控制,品質(zhì)是否達(dá)到要求,鍍層是否符合客戶要求及成本控制方面,X射線鍍層測厚儀均可完成。對于現(xiàn)代電鍍加工來來說, 非接觸式X射線測厚儀作為一種常用的精密測量儀器,以其高精度和可靠性廣泛應(yīng)用于電鍍行業(yè)鍍層檢測中

 X射線鍍層測厚儀系統(tǒng)組成及工作原理 

 

X射線測厚儀、X射光管、檢測器、準(zhǔn)直器、自動臺面控制、雷射對焦系統(tǒng)、軟件系統(tǒng)、計算機控制組成。 

 

X射線由源中高壓光管產(chǎn)生X射線(人工源,斷電自動停止),X射線管有兩個電極:作為陰極的用于發(fā)射電子的燈絲(鎢絲)和作為陽極的用于接受電子轟擊的靶(又稱對陰極)。當(dāng)燈絲通電被加熱到高溫時,大量的熱電子產(chǎn)生,在極間的高壓作用下被加速,高速轟擊到靶面上,由于運動受阻,動能轉(zhuǎn)化為輻射能,以X射線形式放出。 

 

X射線可以由高壓管中的準(zhǔn)直器接受并經(jīng)過前置放大器將X射線強度送到檢測產(chǎn)品中。由于X射線穿透物質(zhì)后的強度衰減與在物質(zhì)中經(jīng)過的距離成正比,所以在物質(zhì)元素成分一定密度已知的情況下,可以通過接受的X射線強度來測出被測物質(zhì)的厚度。 

X射線的吸收關(guān)系式為: 

IX=I0e-ux(1) 

其中:IX為輻射強度;I0為X射線源發(fā)射的輻射強度;U為線衰減系數(shù);X為測量材料厚度。 

 

3.X射線測厚儀吸收曲線及合金補償 

 

根據(jù)X射線的吸收關(guān)系式, X射線鍍層測厚儀即可利用已確定元素成分和密度的標(biāo)準(zhǔn)標(biāo)樣在計算機控制系統(tǒng)中建立標(biāo)準(zhǔn)吸收曲線。如圖3所示,建立標(biāo)準(zhǔn)吸收曲線的標(biāo)準(zhǔn)標(biāo)樣必須具有*相同的元素成分和密度,同時具有一系列的覆蓋測厚儀工作范圍的厚度。在標(biāo)準(zhǔn)吸收曲線建立后,檢測同樣元素成分和密度的內(nèi)置基準(zhǔn)標(biāo)樣,將該值作為檢驗校準(zhǔn)測厚儀精度的基準(zhǔn)保存在控制系統(tǒng)中。 

 

在測厚儀下的測量偏差,紅色曲線為補償后的測量偏差。原始數(shù)據(jù)及補償后數(shù)據(jù)如表1所示,經(jīng)過補償后,偏差在0.2%以內(nèi),滿足產(chǎn)品測量精度要求。 

 

4 X射線測厚儀的精度檢驗及厚度控制 

 

X射線測厚儀作為在線測量厚度的精密儀器,為了保證其測量精度和可靠性,需要定期對其精度進(jìn)行檢驗和校準(zhǔn)。精度檢驗分為靜態(tài)和動態(tài)兩種。 

靜態(tài)檢驗是用已知厚度的試樣放在測厚儀下進(jìn)行測量,根據(jù)測量結(jié)果確定X射線測厚儀的狀態(tài)。檢驗前,要確定試樣狀態(tài)完好,厚度均勻,沒有變形和彎曲,測量位置以減少測量誤差。測厚儀顯示厚度平穩(wěn)的一段產(chǎn)品,根據(jù)要求裁取一定數(shù)量規(guī)格的試樣,

韓國Micro Pioneer(先鋒)X射線鍍層測厚儀

 

XRF-2000鍍層測厚儀共分三種型號

不同型號各種功能一樣

機箱容納樣品大小有以下不同要求

XRF-2000鍍層測厚儀型號介紹

XRF-2000鍍層測厚儀H型:測量樣品高度不超過10cm

XRF-2000電鍍測厚儀L型:測量樣品高度不超過3cm

XRF-2000電鍍膜厚儀PCB型:測量樣品高度不超3cm(開放式設(shè)計,可檢測大型樣品

韓國先鋒XRF-2000鍍層測厚儀

檢測電子及五金電鍍,化學(xué)電鍍層厚度

主要檢測:鍍金,鍍銀,鍍鎳,鍍銅,鍍鋅,鍍錫,及各種合金鍍層等

韓國XRF2000鍍層測厚儀

全自動臺面
自動雷射對焦
多點自動測量 (方便操作人員準(zhǔn)確快捷檢測樣品)
測量樣品高度不超過3cm(亦有10CM可選)
鍍層厚度測試范圍:0.03-35um

可測試單層,雙層,多層及合金鍍層厚度
(單層:如各種底材上鍍鎳,鍍鋅,鍍銅,鍍銀,鍍錫,鍍金等)
(雙層:如銅上鍍鎳再鍍金,銅上鍍鎳再銀,鐵上鍍銅再鍍鎳等)
多層:如ABS上鍍銅鍍鎳再鍍鉻,鐵上鍍銅鍍鎳,再鍍金等)
合金鍍層:如鐵上鍍錫銅等
測量時間:10-30秒
精度控制:
      *層:±5%以內(nèi)
      第二層:±8%以內(nèi)
      第三層:±12%以內(nèi)

 

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