GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀（全自動離子濺射儀）主要適用于掃描電鏡鍍覆導電膜，儀器操作簡單方便，是樣品制備所必要的儀器。適用的靶材：金、鉑、金鈀合金、銀、鉛、銅、鉻、銻等！

描述

1、離子濺射儀工作原理：磁控濺射；

2、可選靶材：金，鉑，金鈀合金，鉛，銀，銅，鉻，銻等；

3、真空室：φ128×100高硅硼玻璃；

4、全自動操作，簡單易用，非常適用鎢燈絲、臺式掃描電鏡等；

濺射電流自動調整—設定濺射電流后，系統自動調節真空度，從而達到設定的濺射電流，調整時間＜5s，波動范圍＜±5%；

5、無需按“實驗”鍵調整濺射電流、無需操作“進氣閥”：

（1）濺射時間自動記憶——同類樣品一次設定即可；

（2）參數改變自動調整——濺射過程中可以隨時調整濺射電流和濺射時長，系統自動計算疊加，無需終止濺射過程；

（3）工作完成自動放氣；

（4）樣品臺高度調節1秒完成；

（5）濺射過程可以利用曲線顯示，清晰直觀；

（6）極限真空：小于1Pa；

6、軟硬件互鎖，防誤操作，安全可靠：

（1）真空度高于100Pa，啟動真空保護，無法濺射；

（2）濺射電流高于50mA，停止濺射過程；

（3）真空泵工作時，系統無法進行放氣操作；

7、GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀鍍層均勻，導電性良好。