輝光放電儀 參考價(jià)：面議
名稱(chēng)：輝光放電儀型號(hào)：GVC-100用途：親水性處理應(yīng)用領(lǐng)域：透射電鏡 生物樣品制備
磁控離子濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000P磁控離子濺射儀一鍵操作，具備工作完成提示音；鍍膜顆粒小，無(wú)熱損傷；靶材更換非常簡(jiǎn)單。
GVC-2000TD高真空磁控離子濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000TD高真空磁控離子濺射儀可制備各種金屬、單質(zhì)、無(wú)機(jī)非金屬薄膜；不破真空情況下，可實(shí)現(xiàn)多層復(fù)合膜制備。
GVC-2000磁控離子濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000磁控離子濺射儀顆粒更小，更適宜于高倍圖像觀測(cè)，適配場(chǎng)發(fā)射/高分辨場(chǎng)發(fā)射電鏡。
GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀是一款容易操控的磁控離子濺射儀，為自動(dòng)化技術(shù)鍍膜機(jī)給予市面上最好使用價(jià)值的商品。它被用于非導(dǎo)電性樣品的預(yù)備處理商品，以提升...
小型分子泵機(jī)組 參考價(jià)：面議
小型分子泵機(jī)組全無(wú)油真空系統(tǒng)；一鍵式啟停操作；快速連接方式；可便捷移動(dòng)真空獲得設(shè)備。
射頻磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀主要適用于掃描電鏡鍍覆導(dǎo)電膜，儀器操作簡(jiǎn)單方便，是樣品制備所必要的儀器。適用的靶材：金、鉑、金鈀合金、銀、鉛、銅、鉻、銻等！
GVC-5000多功能鍍膜儀 參考價(jià)：面議
GVC-5000多功能鍍膜儀配備磁控濺射逐漸和熱蒸發(fā)鍍膜組件，即可實(shí)現(xiàn)磁控濺射各種金屬膜，也可實(shí)現(xiàn)熱蒸發(fā)度碳膜。
GVC-3000熱蒸發(fā)鍍碳儀 參考價(jià)：面議
GVC-3000熱蒸發(fā)鍍碳儀擁有優(yōu)秀的濺射系統(tǒng)，可以更換彈射進(jìn)行蒸鍍，實(shí)現(xiàn)高要求的細(xì)粒涂層。更加適合SEM領(lǐng)域的EDS和WDS應(yīng)用。
GVC-3000T高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀 參考價(jià)：面議
GVC-3000T高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀效率更高、顆粒更細(xì)，膜厚更均勻。7英寸TFT彩色液晶觸摸屏。
GVC-5000T高真空多功能鍍膜儀 參考價(jià)：面議
GVC-5000T高真空多功能鍍膜儀雙組件設(shè)計(jì)；防污擋板設(shè)計(jì)；一鍵切換工作模式；鍍膜效率高、顆粒度小。
GVC-2000磁控膜厚一體濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000磁控膜厚一體濺射儀內(nèi)部集成膜厚檢測(cè)控制模塊，可精確測(cè)量、實(shí)時(shí)顯示當(dāng)前鍍膜厚度。
手套箱專(zhuān)用磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000手套箱專(zhuān)用磁控濺射儀采用觸摸控制，外置泵組設(shè)計(jì)，采用平面磁控濺射靶設(shè)計(jì)，從而使試樣在熱效應(yīng)最小的條件下得到有效的濺射效果，常用于鋰電池電極防氧化...
電極制備鍍膜儀 參考價(jià)：面議
電極制備鍍膜儀雙組件設(shè)計(jì)配備磁控濺射逐漸和熱蒸發(fā)鍍膜組件，即可實(shí)現(xiàn)磁控濺射各種金屬膜，也可實(shí)現(xiàn)熱蒸發(fā)度碳膜。雙組件共存，工作時(shí)只需將樣品放置與對(duì)應(yīng)的組件下方即可...
全自動(dòng)離子濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-1000全自動(dòng)離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過(guò)程中提供了更廣泛的選擇，以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及人機(jī)界面方面更加注重人性，簡(jiǎn)...
磁控離子濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000磁控離子濺射儀基本無(wú)溫升、樣品表面無(wú)熱損失；顆粒更小，更適宜于高倍圖像觀測(cè)，適配場(chǎng)發(fā)射/高分辨場(chǎng)發(fā)射3.低壓大電流濺射，效率更高。
磁控膜厚一體濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000磁控膜厚一體濺射儀內(nèi)部集成膜厚檢測(cè)控制模塊，可精確測(cè)量、實(shí)時(shí)顯示當(dāng)前鍍膜厚度；精準(zhǔn)測(cè)量并復(fù)現(xiàn)當(dāng)前試驗(yàn)結(jié)果。
手套箱鍍電極專(zhuān)用磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000手套箱鍍電極專(zhuān)用磁控濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過(guò)程中提供了更廣泛的選擇,以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。可用于純氬、純氮環(huán)境，使樣品免...
熱蒸發(fā)鍍碳儀 參考價(jià)：面議
熱蒸發(fā)鍍碳儀7英寸TFT觸摸屏，全數(shù)字顯示；全自動(dòng)控制，一鍵式操作；4根碳繩交替工作，自動(dòng)檢測(cè)通斷；連續(xù)蒸發(fā)、脈沖蒸發(fā)兩種工作模式。
高真空磁控離子濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000T 高真空磁控離子濺射儀沒(méi)有熱損傷，效率更高，顆粒度更細(xì)，更適合高分辨電鏡。適用于高分辨掃描電鏡樣品制備，電極制備-可制備各種金屬電極、ITO電...
高真空多功能鍍膜儀 參考價(jià)：面議
高真空多功能鍍膜儀雙組件設(shè)計(jì)；防污擋板設(shè)計(jì)；一鍵切換工作模式；鍍膜效率高、顆粒度小；可鍍所有金屬膜和ITO導(dǎo)電膜；工作過(guò)程全自動(dòng)；軟硬件互鎖，安全可靠。
高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀 參考價(jià)：面議
GVC-3000T高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀應(yīng)用領(lǐng)域：1.EDS樣品制備2. EBSD樣品制備3.MLA系統(tǒng)樣品制備4.其它需要制備碳膜的領(lǐng)域。
多功能鍍膜儀 參考價(jià)：面議
多功能鍍膜儀是雙組件設(shè)計(jì)配備磁控濺射逐漸和熱蒸發(fā)鍍膜組件，即可實(shí)現(xiàn)磁控濺射各種金屬膜，也可實(shí)現(xiàn)熱蒸發(fā)度碳膜。雙組件共存，工作時(shí)只需將樣品放置與對(duì)應(yīng)的組件下方即可...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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