GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀
- 公司名稱 北京格微儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2024/11/7 15:07:27
- 訪問次數 1191
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產地類別 | 國產 | 價格區間 | 面議 |
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應用領域 | 電子,冶金,綜合 |
GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀是一款容易操控的磁控離子濺射儀,為自動化技術鍍膜機給予市面上最好使用價值的商品。它被用于非導電性樣品的預備處理商品,以提升三維成像屏幕分辨率,樣品導電率,電子電荷降低并減少對比較敏感樣品的光線損害。
型號&名稱 | GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀 |
真空系統 | 渦輪分子泵(進口 ):德國萊寶90i (單磁懸浮分子泵,抽速為90L/s) 旋片式真空泵:浙江飛越VRD-4 (抽速為 1 .1L/s) |
真空測量 | 全量程復合真空規(進口):1.0E5Pa-1E-4Pa |
系統極限真空 | ≤5E-3Pa |
濺射電源 | 磁控濺射電源,功率150W |
可用靶材 | 所有金屬靶材,ITO靶材 |
濺射電壓 | 300-600V,根據選擇靶材、控制參數不同而變化 |
濺射電流 | 0-200mA連續可調,步長5mA |
濺射時間 | 0-9999s, 連續可調步長1s |
操作界面 | 7英寸TFT彩色液晶觸摸屏,分辨率800×480 |
操作方式 | 一鍵操作 |
抽氣節拍 | <15分鐘 |
控制方式 | 只需設定濺射電流和時間即可,全自動控制 具備預濺射擋板(預濺射時間可設定),全自動控制 |
保護功能 | 軟硬件互鎖、防止誤操作,具備電流、真空保護等 |
樣品臺直徑 | φ125mm,可自轉,可自動手動控制,轉速4-40rpm可調 |
真空室 | 高硅硼玻璃,規格尺寸約φ200×130mm |
電源供電 | 220V 50Hz 功率800W |
尺寸&重量 | 重量 424(長) ×345(深) ×420mm(高)、 25 kg (凈重) |
冷卻方式 | 內部風冷 |
選配 | 樣品臺選擇、膜厚控制、溫度監測等 |
鍍膜樣品示例:
靶材-銀 靶材-鎢 靶材-鉻
靶材-鎳 靶材-釩 靶材-錫
靶材-銅 靶材-鉭 靶材-貼
靶材-鈦 靶材-鉛 靶材-鉬
靶材-鋁 靶材-鉑 靶材-金
靶材-鋯 靶材-鉺 靶材-ITO