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1200℃滑動式單溫區/雙溫區/三溫區CVD系統
參考價 | 面議 |
- 型號
- 品牌 其他品牌
- 廠商性質 生產商
- 所在地 天津市
更新時間:2024-10-28 14:10:02瀏覽次數:5455
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產地類別 | 國產 | 應用領域 | 醫療衛生,化工,生物產業,石油,能源 |
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1200℃滑動式單溫區/雙溫區/三溫區CVD系統產品用途:
此款CVD系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控
生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結真空淬火退火,快速降溫等工藝實驗。
產品組成:
CVD系統配置:
1、1200度開啟式真空管式爐(可選配多溫區)。
2、滑動系統分為手動、電動滑動,并配有風冷系統。
3、多路質量流量控制系統
4、真空系統(可選配中真空或高真空)
1200℃滑動式單溫區/雙溫區/三溫區CVD系統產品特點:
1、控制電路選用模糊PID程控技術,該技術控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。
2、中真空系統具有真空度上下限自動控制功能,高真空系統采用高壓強,耐沖擊分子泵,防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統使用壽命。
3、(電動)滑動系統采用溫度控制器自動控制爐體移動,等程序完成,爐體按設定的速度滑動,因有滑動限位功能爐體不會發生碰撞,待樣品露出爐體后,通過風冷系統快速降溫。
產品圖片:
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