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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 產品圖片 | 產品名稱 | |||
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GM1010/GM1020/GM1075EM Resist SU-8負性抗蝕劑 簡單介紹：EM Resist SU-8負性抗蝕劑產品，非常適合半導體應用。我們的產品有各種形式和厚度范圍。 典型的SU-8過程包括以下步驟： 基板準備 旋涂 松弛時間以提高表面均勻度 軟烤 曝光后烘烤 發展歷程 沖洗并干燥 可選硬烤 產品型號：GM1010/GM1020/GM1075 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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納米壓印光刻膠 簡單介紹：公司擁有齊全的納米系列壓印膠材料，熱壓型納米壓印膠、熱塑型納米壓印膠、紫外光固化型納米壓印膠、紫外光固化納米壓印和光刻兩用膠、舉離型傳遞層材料、刻蝕型傳遞層材料、各種與納米壓印技術相關的化學藥品，如模板防粘劑、基片增粘劑等。 產品型號： 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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2035/2050/2075/2100光刻膠SU-8 2000 簡單介紹：SU-8 2000是一種高對比度，基于環氧的光致抗蝕劑，設計用于微加工和其他微電子應用，需要厚，化學和熱穩定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進配方，多年來已被MEMS生產商廣泛使用。使用更快干燥，極性更大的溶劑系統可改善涂層質量并提高工藝產量。 SU-8 2000有十二種標準粘度。通過單道涂覆工藝可以實現0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯的部分不溶于液體顯影劑。 產品型號：2035/2050/2075/2100 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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3010/3005/3025/3050SU-8 3000光刻膠 簡單介紹：SU-8 3000是一種高對比度，基于環氧的光刻膠，專為微加工和其他微電子應用中， 需要化學和熱穩定的圖像。 SU-8 3000是SU-8和SU-8 2000的改進配方，已被廣泛采用 由MEMS生產商使用多年。 SU-8 3000有配制用于改善附著力和降低涂層應力。 SU-8 3000的粘度范圍允許膜厚為4至單層涂層厚度為120 µm。 產品型號：3010/3005/3025/3050 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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2005/2010/2025光刻膠SU-8 2000 簡單介紹：SU-8 2000是一種高對比度，基于環氧的光致抗蝕劑，設計用于微加工和其他微電子應用，需要厚，化學和熱穩定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進配方，多年來已被MEMS生產商廣泛使用。使用更快干燥，極性更大的溶劑系統可改善涂層質量并提高工藝產量。 SU-8 2000有十二種標準粘度。通過單道涂覆工藝可以實現0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯的部分不溶于液體顯影劑。 產品型號：2005/2010/2025 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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美國Futurrex光刻膠 簡單介紹：Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學品制造商。產品以技術著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長期與Intel實驗室合作，產品被廣泛收錄進美國各大學半導體教程，是各大研究機構產品。 產品型號： 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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PR3、PR41Futurrex去膠液 簡單介紹：Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學品制造商。產品以技術著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長期與Intel實驗室合作，產品被廣泛收錄進美國各大學半導體教程，是各大研究機構產品。 產品型號：PR3、PR41 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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RD3、RD6美國Futurrex顯影液 簡單介紹：Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學品制造商。產品以技術著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長期與Intel實驗室合作，產品被廣泛收錄進美國各大學半導體教程，是各大研究機構產品。 產品型號：RD3、RD6 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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mr-I 7000E、mr-I 8000E德國Micro Resist納米壓印膠 簡單介紹：德國Micro Resist公司創立于1993年.公司生產的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學波導制作的光膠可供選擇。 產品型號：mr-I 7000E、mr-I 8000E 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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ma-N 2400、mr-EBLMicro Resist電子束及深紫外光刻膠 簡單介紹：德國Micro Resist公司創立于1993年.公司生產的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學波導制作的光膠可供選擇。 產品型號：ma-N 2400、mr-EBL 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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PR1系列Futurrex紫外正性光刻膠 簡單介紹：Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學品制造商。產品以技術著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長期與Intel實驗室合作，產品被廣泛收錄進美國各大學半導體教程，是各大研究機構產品。 產品型號：PR1系列 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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NR9-P、NR9G-P、NR5Futurrex紫外負性光刻膠 簡單介紹：Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學品制造商。產品以技術著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長期與Intel實驗室合作，產品被廣泛收錄進美國各大學半導體教程，是各大研究機構產品。 產品型號：NR9-P、NR9G-P、NR5 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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Microchem SU-8 2000 系列 簡單介紹：SU-8 2000化學放大，i線抗蝕劑非常適合制造 permanent性器件結構。 這些負色調，環氧基抗蝕劑表現出優異的耐化學性和低的楊氏模量，使其成為制造微/納米結構的理想選擇，如懸臂，膜和微通道。 產品型號： 所在地：上海市 更新時間：2024-05-16 |
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SU-8 3035， 3050Microchem SU-8 3000系列 簡單介紹：SU-8 3000已被配制用于改進的粘合性和降低的涂層應力。它被用于需要高結合強度和改進的微結構制造柔性的地方。 結果，大大提高了與基板的粘合性。 產品型號：SU-8 3035， 3050 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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