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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 參考價(jià) | 面議 |
更新時(shí)間：2024-05-17 08:23:23瀏覽次數(shù)：1501
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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
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美國(guó)RTP系列的快速退火爐溫度均勻度≤1%，處理的大尺寸可以達(dá)到200mm，溫度可以達(dá)到1200攝氏度，處理過程可以在真空環(huán)境或者惰性氣體的環(huán)境中執(zhí)行，做多可支持4~6路進(jìn)氣，可以用到的氣體包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。
- 處理時(shí)間：0.1秒至無*；
- 燈管數(shù)量及功率：13支，
- 腔體冷卻：風(fēng)冷方式；
- 襯底冷卻：氮?dú)獯祾撸?/span>
- 工藝氣路：MFC控制，多6路 (氮?dú)狻鍤狻⒀鯕狻涞旌蠚獾?/span>)；
應(yīng)用領(lǐng)域：
快速熱退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);
快速熱氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);
快速熱氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);
硅化 (Silicidation);
擴(kuò)散 (Diffusion);
化合物半導(dǎo)體退火 (Compound Semiconductor Annealing);
離子注入后退火 (Implant Annealing);
電極合金化 (Contact Alloying);
晶向化和堅(jiān)化 (Crystallization and Densification);
