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新代高精度低溫銫離子源FIB系統
 | 運用曾獲諾貝爾獎的激光冷卻技術，zeroK Nanotech公司于2020年推出了基于低溫銫離子源（Cs+ LoTIS）的新代高精度低溫銫離子源FIB系統——FIB: ZERO（Cs+ LoTIS）和相應的離子源升配件——FIB：RETRO。zeroK Nanotech公司采用的低溫技術可以減少離子束中的隨機運動，從而使FIB：ZERO中的離子束斑與傳統離子源產生的束斑相比具有更高的亮度，更小的尺寸和更低的能量散失。同時，還可以產生更多的二次離子，獲得更清晰的成像。 系列測試表明，新代的FIB: ZERO（Cs+ LoTIS）與傳統的液態金屬鎵離子源(Ga+ LMIS) FIB 系統相比擁有更高的微納加工精度，更清晰的成像對比度和景深。其加工速度與傳統FIB基本致，在低離子束流能量條件下有著更異的表現。與氦（He+），氖（Ne+）離子源FIB相比，FIB: ZERO擁有高個數量的加工速度和對樣品更少的加工損傷。 |
應用域
◎ 納米精細加工
◎ 芯片線路修改和失效分析
◎ 微納機電器件制備
◎ 材料微損傷磨削加工
◎ 微損傷透射電鏡制樣
設備點
更高的亮度：低溫Cs+離子使FIB: ZERO（Cs+ LoTIS）與傳統FIB (Ga+ LMIS)相比具有更高的亮度，配合其全新的高對比度大景深成像系統，對樣品的觀察范圍更大、更清晰。
更小的離子束斑尺寸：FIB: ZERO（Cs+ LoTIS）系統小分辨率可達2 nm，提供了比傳統的FIB (Ga+ LMIS)更高的加工精度。
更小的能量散失：可達10 nA以上的離子束電流，保證了低能量離子束條件下的 秀表現。
設備型號
FIB:ZERO聚焦離子束
采用Cs+低溫離子源（LoTIS）的聚焦離子束 FIB：ZERO系統以較低的束能量提供較小的聚焦點尺寸，并提供多種束電流。它是當今基于Ga+，He+或Ne+的FIB的下代替代產品。
FIB:ZERO是采用新型高性能Cs+離子源的聚焦離子束系統。與 Ga+系統相比，即使在較低的光束能量下，它也可以提供更好的分辨率。與He+或Ne+系統相比，它的銑削速率高個數量，并且減少了樣品損傷。FIB:ZERO還可提供可更高的對比和更高的二次離子產率。
FIB:ZERO應用域： ◎ 高分辨率濺射 ◎ 二次電子或離子成像 ◎ 氣體驅動的沉積和去除 ◎ 電路編輯
FIB:ZERO主要參數 ◎ Cs+離子束在10 keV下具有2 nm分辨率 ◎ 1 pA至10+ nA束電流 ◎ 2 keV至18 keV的束能量 ◎ 兼容大多數附件 |
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動態SIMS
與同類產品相比，采用Cs+低溫離子源（LoTIS） 的SIMS：ZERO聚焦電子束SIMS平臺，可向同個點提供100倍的電流，從而能夠以更高的分辨率分析更大的樣本。
SIMS：ZERO產品點：
◎ 具有納米分辨率的Cs +離子束
◎ 10+ nA束電流（Cs +）
◎ 功能齊全的FIB系統
◎ 高分辨率的SIMS
SIMS：ZERO技術勢：
◎ 無需薄片即可獲得類似EDX的光譜
◎ 收集SIMS數據的速度提高100倍
◎ 很好的控制SIMS的納米加工過程
測試數據
微納加工對比
加工均勻性對比
左圖為用FIB (Ga+ LMIS)系統從硅基底上去除150nm厚金膜的結果，右側為ZeroK nanotech的FIB: ZERO （Cs+ LoTIS）在相同時間內去除金膜的結果。
加工精度對比
左側圖為Ga+離子源FIB加工結果, 右側圖為ZeroK Nanotech FIB: ZERO在相同時間內加工的結果。
加工速度對比
在10 kV下 Cs+離子束磨削速度比30kV下的Ga+離子束慢15%，比10kV下的Ne+離子束的磨削速度高90%。
加工損傷范圍對比
SRIM（The Stop and Range of Ions in Matter）模擬離子束在加工硅的過程中對材料的影響范圍，圖從左至右分別為Ne+10KV, Ga+30KV, Cs+10KV。從圖可以看出，Cs+離子源對被加工材料的損傷范圍小。
成像效果對比
景深成像對比
左圖為Ga+離子源FIB系統對120μm高的樣品成像結果，右圖為ZeroK Nanotech FIB：ZERO對同樣品的成像結果。
成像對比度比較
左圖為Ga+離子源FIB對GaAs/AlGaAs/GaAs層狀結構的成像結果，右圖為ZeroK Nanotech FIB：ZERO對同樣品的成像結果。
成像清晰度比較
左圖為Ga+離子源FIB系統對芯片橫截面的成像結果，右圖為ZeroK Nanotech FIB：ZERO對同截面的成像結果。
發表文章
1. Steele, A. V., A. Schwarzkopf, J. J. McClelland and B. Knuffman (2017). "High-brightness Cs focused ion beam from a cold-atomic-beam ion source." Nano Futures 1: 015005.
2. Knuffman, B., A. V. Steele and J. J. Mcclelland (2013). "Cold atomic beam ion source for focused ion beam applications." Journal of Applied Physics 114(4): 191.
用戶單位
TU Kaiserslautern
