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專用電子束光刻系統 參考價：面議
專用電子束光刻系統這些創新、智能配置的電子束光刻系統可以輕松有效地實現納米加工。所有 Raith EBL 系統都配備了高精度激光干涉儀平臺和圖案發生器，可為您的...
激光 分子束外延系統 參考價：面議
激光 分子束外延系統是一種用于物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，綜合了脈沖激光沉積和分子束外延的特點和優勢。它能在高真空、真空條件下實現原位實時監控薄膜原子尺...
剝離成形電子束設備 參考價：面議
剝離成形電子束設備：對于有些金屬，我們很難使用蝕刻(Etching)方式來完成想要的電路圖案(Circuit Pattern)時，就可以采用 Lift-Off制...
超高真空電子束蒸鍍設備 參考價：面議
超高真空電子束蒸鍍設備的特征為其真空壓力低于10-8至10-12 Torr，在化學物理和工程領域十分常見。超高真空環境對于科學研究非常重要，因為實驗通常要求，在...
電子束蒸鍍設備 參考價：面議
電子束蒸鍍設備是一種實用且高度可靠的系統。我們的系統可針對量產使用單一坩堝也可以有多個坩堝來達到產品多層膜結構。在基板乘載上我們對應半導體研究和大型設備設計。單...
電子束蒸鍍 參考價：面議
電子束蒸鍍為一種物理氣相沉積（PVD）技術，其中電子束是由鎢絲所產生的，並受到電場和磁場的驅動而朝向蒸發材料，並將其材料由固態轉化為氣態以沉積在基板表面上。且該...
多層膜磁控濺鍍設備 參考價：面議
多層膜磁控濺鍍設備廣泛用於各個領域，而對於精密系統則需要更嚴格的規格，包括光、聲音和電子元件。在單一材料薄膜無法滿足所需規格的精密系統中，高質量多層膜的作用變得...
Thermo Scientifc Helios 5 DualBeam 參考價：面議
Thermo Scientifc Helios 5 DualBeam憑借其先進的聚焦離子束和電子束性能、專有軟件、自動化和易用性特征，重新定義了樣品制備和三維表...
具有分辨率的直接激光刻錄機 參考價：面議
具有分辨率的直接激光刻錄機PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機，可使用單個激光束創建高分辨率結構。這款多功能、低維護的激光刻錄機可為特征和光柵周期提供分...
激光光刻系統 參考價：面議
激光光刻系統PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機，可使用單個激光束創建高分辨率結構。這款多功能、低維護的激光刻錄機可為特征和光柵周期提供分辨率。用戶友好...
大面積 SEM 成像 參考價：面議
大面積 SEM 成像通過 CAD 形狀提取在大面積和 3D 中拼接 3D SEM 圖像馬賽克
聚焦離子束掃描電鏡系統 參考價：面議
聚焦離子束掃描電鏡系統用于以 FIB 為中心的納米加工的 FIB-SEMVELION 是一種用于納米科學與工程的新型 FIB-SEM 儀器概念。FIB 納米加工...
德國電子束曝光 參考價：面議
德國電子束曝光主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進行曝光，適用于科研及小批量生產中使用；自動化程度高，除了放樣取樣外，整個曝光過程只需要編輯曝光的相...
國產電子束光刻 參考價：面議
國產電子束光刻主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進行曝光，適用于科研及小批量生產中使用；自動化程度高，除了放樣取樣外，整個曝光過程只需要編輯曝光的相...
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