Plan C平場物鏡下出色的平場圖像

　　采用UIS系統的PLC系列平場物鏡顯著地提高了圖像的平場性，即使視場邊緣仍然能保持*的銳利和清晰度。PLC物鏡在zui常用的10×和40×倍率下平場率達到95%，圖像效果尤為出色，代表了同類顯微鏡的zui高水平。

• 明亮，光照均勻的成像品質
　　照明系統采用高強度的6V，30W汞燈作光源，是明亮圖像的保證。標準的視場光闌和內置的聚光鏡孔徑光闌相結合，在各種放大倍率下都能提供充足、均勻的照明效果。

• 堅固耐用的結構保證了高性能和長使用壽命
　　顯微鏡鏡體結合緊湊，剛性*，操作簡單，符合人機工程學要求，安全穩固的一體化機身保證了出色的性能與使用安全，不容易丟失顯微鏡的配件。

• 數碼成像裝置配件

      可以選擇奧林巴斯數碼相機接口，進行簡單、經濟的數碼成像。

• 防霉處理
　　觀察筒、目鏡和物鏡都進行了防酶處理，即使在潮濕地區也能保證光學部件的優良品質。

實現包括熒光等多種觀察方法，擁有*的性能價格比

• 滑動聚光鏡/ CX-SLC
　明場聚光鏡/ CH3-CD

　　這些阿貝聚光鏡可以進行4×到100×的明場觀察。輔助透鏡（CX-AL）能夠精確調節光軸中心，并且配合孔徑光闌獲得*的苛勒照明效果。如果添加相應的附件，這些阿貝聚光鏡就能進行相差和暗場的顯微觀察。



• 相差觀察附件/ CX-PH1,2,3
  用于10×，40×，100×的相差觀察。

 

• 暗場中央光闌/ CH2-DS
  用于4×到40×的暗場觀察。


• 低倍放大適配器/ CX-LA
  用于2×物鏡進行宏觀觀察。

• 落射熒光裝置/ CX-RFL-2
  落射熒光裝置可以進行藍、綠兩種激發的熒光觀察。用戶可以在熒光觀察方式和明場觀察方式之間自由切換。UIS2光學系統提供更明亮，更清晰的熒光圖像，排除勒因為添加勒中間附件而產生的不良影響。標準的Plan C物鏡能直接用于熒光觀察。


• 防酶處理
  觀察筒、目鏡和物鏡等光學部件都進行了防酶處理，即使在潮濕地區也能保證光學部件的優良品質。

細節解析

• UIS2目鏡
　提供寬廣的視場（F.N.20），高眼點設計方便戴眼鏡的使用者進行觀察

• 雙目觀察筒
　左目筒可通過調節環調節屈光度，結合很寬的瞳距調節范圍（48-75mm），為每一位使用者提供zui舒適的觀察條件。

• 內側傾斜的四孔物鏡轉盤
　在物鏡前方留出了更多空間，更容易確認觀察樣品的位置，更換樣品更方便。

• 粗調限位鈕
　鎖定載物臺移動上限，避免樣品接觸到高放大倍率的物鏡造成污染或損壞。

• 寬視野平場UIS物鏡
　PLC物鏡提供同類zui高水平的平場性。

• 鋼絲傳動載物臺
　無突出設計。低位的載物臺控制鈕保證了樣品平滑移動。

• 光強調節鈕
　光強連續可調。

• 阿貝聚光鏡
　數值孔徑N.A.1.25，內置孔徑光闌，為不同的樣品和各種放大倍率提供合適的照明。

• 同軸粗/微調焦手柄
　為不同的使用者提供張力調節功能。用戶將手臂平放在桌面上就能輕松地對樣品進行聚焦。

• 視場光闌
　與鏡體融為一體，能安裝45mm濾光片。

• 堅固的鏡架
　堅實穩固的機身經久耐用。

提供更多附件，更多功能選擇

• 輕松進行數碼攝像

雙人共覽裝置/ U-DO3                                                                       三目觀察筒/U-CTR30-2與中間附件/ U-TRU            

 

眼點調節器/ U-EPA2                                                                        箭頭指示器/ U-APT