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名 稱:氫氣發生器
型 號:DH-300
品 牌:中惠普
產 地:北京
氫氣發生器結構:
氫氣發生器由電解池、純水箱、氫/水分離器、收集器、干燥器、傳感器、壓力調節閥、開關電源等部件組成。只電解純水即可產氫。通電后,電解池陰極產氫氣,陽極產氧氣,氫氣進入氫/水分離器。氧氣排入大氣。氫/水分離器將氫氣和水分離。氫氣進入干燥器除濕后,經穩壓閥、調節閥調整到額定壓力(0.02~0.45Mpa可調)由出口輸出。電解池的產氫壓力由傳感器控制在0.45Mpa左右,當壓力達到設定值時,電解池電源供應切斷;壓力下降,低于設定值時電源恢復供電。
主要技術參數:
1. 氫氣純度:99.99999%
2. 氫氣流量:0-300ml/min
3. 輸出壓力:0-0.5Mpa
4. 壓力穩定性:< 0.0001MPa
5. 供電電源:220V±10%, 50Hz
6. 消耗功率:300W
7. 外型尺寸:420×200×350mm
8. 凈重:約15Kg
儀器特點:
1、采用鈀合金過濾膜,可確保氫氣純度持續達到99.99999%;
2、對原料水要求不高,只需普通蒸餾水即可;
3、不需要干燥劑(如:變色硅膠、分子篩等);
4、儀器內部采用硅橡膠圈(含硫量低),有效提高氣體質量,保證色譜基線平穩;
5、免維護;
6、壓力及流量均采用一體化的控制;
7、全自動控制,設有水位、超壓等多種安全裝置;
8、可滿足高精度氣相色譜儀、極譜儀、半導體外延、核物理實驗等對超高純度氫氣的需求。
同系列產品技術參數:
型號 | 流量 | 儀器特點 |
0-300ml/min | 全自動控制,不存儲氫氣,有水位、超壓的安全裝置,純度99.99999% | |
0-500ml/min | ||
0-300ml/min | 采用*的離子膜制氫技術,無需加堿,直接電解純水(去離子水、二次蒸餾水),優點:不污染色譜的任何部件。純度:優于99.999%,壓力:0-0.4MPa | |
0-500ml/min | ||
0-1000ml/min | ||
0-200ml/min | 體積小,重量輕,單級過濾,壓力0.3MPa,自動防返堿,純度99.999% | |
0-300ml/min | 單級不銹鋼過濾器,壓力0.4MPa,自動防返堿,純度99.999% | |
0-300ml/min | 兩級不銹鋼過濾器,內有微量氧脫除劑(不需活化),純度更高,壓力0-0.4MPa,0-0.6MPa兩檔可調,自動防返堿,純度99.999% | |
0-500ml/min | 單級不銹鋼過濾器,壓力0.4MPa,自動防返堿,純度99.999% | |
0-500ml/min | 兩級不銹鋼過濾器,內有微量氧脫除劑(不需活化),純度更高,壓力0-0.4MPa,0-0.6MPa兩擋可調,自動防返堿,純度99.999% | |
0-1000ml/min | 大流量,可同時帶多臺色譜,自動防返堿,純度99.999% | |
0-3000ml/min | 安全可靠,自動流量跟蹤,用于中心實驗室集中供氫,可用于石化、半導體等行業 | |
0-6000ml/min | 安全可靠,自動流量跟蹤,用于中心實驗室集中供氫,可用于石化、半導體等行業 | |
0-9000ml/min | 安全可靠,自動流量跟蹤,用于中心實驗室集中供氫,可用于石化、半導體等行業 |
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