您好, 歡迎來(lái)到化工儀器網(wǎng)
會(huì)員.png)
13
| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 石油,能源,電子,航天,電氣 |
|---|
產(chǎn)品分類品牌分類
-
阻抗分析儀 鐵電綜合材料測(cè)試系統(tǒng) 鐵電分析儀 高壓功率放大器 D33壓電系數(shù)測(cè)試儀 高溫介電溫譜測(cè)試儀 熱釋電測(cè)試儀 TSDC熱刺激電流測(cè)試儀 高壓極化裝置 高低溫冷熱臺(tái) 簡(jiǎn)易探針臺(tái) 高溫四探針測(cè)試儀 多通道電流采集系統(tǒng) 高真空退火爐 電學(xué)綜合測(cè)試系統(tǒng) 高溫管式爐測(cè)試儀 漆包線擊穿耐壓試驗(yàn)儀 電化學(xué)遷移測(cè)試系統(tǒng) 水平垂直燃燒測(cè)定機(jī) 陶瓷材料閃燒試驗(yàn)裝置 導(dǎo)通電評(píng)估系統(tǒng) 差熱分析儀 醫(yī)用接地電阻
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
北京華測(cè)儀器高溫管式爐
產(chǎn)品介紹：
目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無(wú)法實(shí)現(xiàn)溫度的測(cè)量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測(cè)儀器通過(guò)多年研究開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布。 可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻 ，用石英管保護(hù)加熱式樣，無(wú)氣氛污染。可在高真空，高出純度氣體中加熱 。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。
北京華測(cè)儀器高溫管式爐提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰Α?同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講，都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。
同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單，有冷卻系統(tǒng)可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率，實(shí)現(xiàn)全溫度控制操作！
本試驗(yàn)爐具有：1000度、1200度、1400度各種型號(hào)。也可根據(jù)用戶需求訂制！
反射鏡是具有曲率,采用5軸加工系統(tǒng)加工,以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測(cè)試。
設(shè)備優(yōu)勢(shì)：
高速加熱與冷卻方式：高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。
溫度控制：過(guò)紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度(遠(yuǎn)比普通加溫方式)。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻：加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體 靜態(tài)或流動(dòng)），操作簡(jiǎn)單，使用石英玻璃制成。紅外線 可傳送到加熱/冷卻室。
應(yīng)用范圍：
1. 電子材料
◆半導(dǎo)體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）
◆熱源薄膜形成
◆激活離子注入后
◆硅化物的形成
2. 陶瓷與無(wú)機(jī)材料
◆ 陶瓷基板退火爐
◆玻璃基板退火爐。
◆陶瓷張力、撓曲試驗(yàn)退火爐。
3. 鋼鐵和金屬材料
◆ 薄鋼板加熱過(guò)程的數(shù)值模擬。
◆ 爐焊接模擬
◆ 高真空熱處理（1000°C以下）
◆ 大氣氣體熔化過(guò)程
◆ 壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐
4. 復(fù)合材料
◆ 耐熱性評(píng)價(jià)爐
◆ 無(wú)機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐
5. 其它
◆ 高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐。
◆ 分段分區(qū)控制爐
◆ 溫度梯度爐
◆ 爐氣分析
◆ 超導(dǎo)陶瓷退火爐
北京華測(cè)儀器高溫管式爐/測(cè)試儀
北京華測(cè)儀器高溫管式爐/測(cè)試儀
化工儀器網(wǎng)