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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,石油,電子,汽車,電氣 |
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產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
儀器名稱：高真空退火爐
儀器型號：Huace-1200G
儀器介紹：
華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實現(xiàn)高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。可實現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空， 高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐，是目前一種理想的高真空退火爐。
它提高了加熱試驗?zāi)芰ΑＭ娮锠t和其他爐相比，紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講，都能節(jié)省時間并提高實驗速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系，an全可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現(xiàn)全溫度控制操作！
設(shè)備原理：
1、輻射加熱
紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。
2、紅外線燈
紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。
3、反射光
反射鏡是用曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。
設(shè)備特點
高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時體可配置水冷，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實現(xiàn)快速冷卻。
溫度控制
通過紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供。
清潔加熱
反射鏡是用曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS
不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境，低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
設(shè)備結(jié)構(gòu)：
序號 | 項目 | 數(shù)量 | 品牌 | 備注 |
1 | 爐體 | 1 | 華測 | 大溫度1200℃ |
2 | 加熱源 | 1 | GE（） | |
3 | 溫度控制器 | 1 | 華測 | |
4 | 電熱偶 | 1 | omega | |
5 | 溫控表 | 1 | 歐姆龍（） | |
6 | 穩(wěn)壓電源 | 1 | 華測 | 可定制 |
7 | 制冷水機 | 1 | 同飛 | 制冷功率8KW |
8 | 分子泵 | 1 | 萊寶（） | CF法蘭，抽速≥40L/s，極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa |
應(yīng)用：
電子材料 | 半導(dǎo)體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻） |
熱源薄膜形成 | |
激活離子注入后 | |
硅化物的形成 | |
陶瓷與無機材料 | 陶瓷基板退火爐 |
玻璃基板退火爐 | |
鋼鐵和金屬材料 | 薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬 |
爐焊接模擬 | |
高真空熱處理（1000°c以下） | |
大氣氣體熔化過程 | |
壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐 | |
復(fù)合材料 | 耐熱性評價爐 |
無機復(fù)合材料熱循環(huán)試驗爐 | |
其他 | 高溫拉伸壓縮試驗爐 |
分段分區(qū)控制爐 | |
溫度梯度爐 | |
爐氣分析 | |
超導(dǎo)陶瓷退火爐 |
高真空退火爐 華測測試儀器
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