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2024
12-12

蛋白質聚集——Nicomp 動態(tài)光散射系統(tǒng)
全文共932字，閱讀大約需要5分鐘摘要：蛋白質溶液中的聚集被證明會產生有害影響。對較大的聚集體可以進行測量，但對0.150納米到2微米范圍內的較小聚集體則難以量化。Nicomp®動態(tài)光散射（D...
2024
12-12

LUM穩(wěn)定性分析儀助力穩(wěn)定性評估
米諾地爾屬于難溶性藥物，其粒徑在亞微米到微米級別，分散體系如果穩(wěn)定性差，可較短時間內發(fā)生沉降分層。在實際使用過程中，穩(wěn)定性的差異也會影響產品均一性，產品中納米顆粒粒徑的情況。而納米顆粒的粒徑大小會直接...
2024
12-07

Nicomp納米激光粒度儀可用于分析顆粒樣品的尺寸和分散性
難溶性藥物，如米諾地爾的粒徑對其后續(xù)藥用效果具有很大影響。溶解在制劑中的藥物滲透角質層并深入皮膚組織以及血液中，而過大尺寸的納米顆粒則難以透過角質層，進而阻止了納米顆粒的滲透。MXD納米顆粒可以高效地...
2024
11-29

LUM穩(wěn)定性分析設備在處方篩選中的作用
1背景摘要：在復雜注射劑的研發(fā)和制劑開發(fā)中，處方篩選至關重要，它直接關系到藥物的有效性、穩(wěn)定性和安全性。本文主要介紹了LUMiSizer穩(wěn)定性分析設備在處方篩選中的作用，如快速進行處方篩選，以節(jié)省研發(fā)...
2024
11-29

PSI高壓微射流均質機的工作原理與特點介紹
意大利PSI公司生產的高壓微射流均質機按高標準的醫(yī)藥級別設計而成，在高壓力、高處理量的前提下依舊能夠保持超低運行噪音，其小巧緊湊的機身適應實驗室、小規(guī)模生產及中試、中等規(guī)模生產環(huán)境；全系產品模塊化設計...
2024
11-23

日本HM&M的UAM機型珠磨機表現(xiàn)出了哪些優(yōu)勢？
常見分散方法的球磨法或砂磨機，在分散時物料、磨珠與機體之間的撞擊會對納米晶、混懸劑中的納米顆粒造成損傷，磨損的材料進入料液中會變成難以除去的雜質，這對料液的純度產生不利的影響，此外，機械力過大時局部升...
2024
11-22

復雜注射劑之乳劑制備工藝探討
本文隸屬于一體化解決方案系列，全文共6593字，閱讀大約需要22分鐘引言：高壓均質機對于乳劑制備的作用乳劑通常是由兩種互不相溶的液體，其中一種以微小液滴的形式分散在另一種液體中所形成的非均相分散體系，...
2024
11-18

大顆粒（LPC）對拋光效率和良品率的影響 — TEOS層的CMP拋光研究
本文隸屬于一體化解決方案系列，全文共6324字，閱讀大約需要21分鐘引言：LPC對CMP制程工藝的影響隨著半導體行業(yè)的蓬勃發(fā)展，作為重要工藝段的CMP獲得了廣泛的關注。而作為此工藝段的重要原料-CMP...
2024
11-18

不溶性微粒檢測儀旨在提升注射劑用藥安全
在制藥行業(yè)，注射液的安全性至關重要。注射液中的不溶性微粒，如塵埃、纖維、金屬顆粒等，可能來源于藥品生產、儲存和運輸過程中。這些微粒一旦存在于藥品中，可能引發(fā)嚴重的健康風險，如血管栓塞、過敏反應甚至死亡...
2024
11-12

兩種測定膠體穩(wěn)定性的分析新技術:SPOS和空間時間消光譜圖分析法
本文隸屬于一體化解決方案系列，全文共3215字，閱讀大約需要12分鐘引言：膠體穩(wěn)定性分析技術本文主要探討了膠體懸浮液的穩(wěn)定性控制問題。膠體懸浮液在藥物輸送、軟飲料制造、涂層、拋光等領域有廣泛應用，其穩(wěn)...
2024
11-12

復雜注射劑粒度表征的整體解決方案
本文隸屬于一體化解決方案系列，全文共3107字，閱讀大約需要12分鐘摘要：復雜注射劑的粒徑控制是其制備中的關鍵一環(huán)，注射劑的平均粒徑、不溶性顆粒以及尾端大顆粒是其質量控制的重要內容。Entegris（...
2024
11-11

一種利用商用研磨液顆粒評估CMP過濾器攔截效率的新方法
本文隸屬于一體化解決方案系列，全文共2831字，閱讀大約需要11分鐘摘要：化學機械平坦化（CMP）研磨液（Slurry，漿料）包含少量大顆粒（LPC），會在晶圓表面造成微劃痕。在不改變工作顆粒分布的情...
2024
10-29

在線計數(shù)粒徑檢測儀其主要的技術特點是什么？
在線計數(shù)粒徑檢測儀是一種精密的測量設備，它主要用于實時監(jiān)測流體（如空氣、水或其他液體）中顆粒的數(shù)量、大小以及粒徑分布。工作原理主要基于激光散射、光衍射或其他光學原理。當激光束照射到流經傳感器的流體中的...
2024
10-26

在線計數(shù)粒徑檢測儀的保養(yǎng)是很有講究的
在線計數(shù)粒徑檢測儀是一種精密的測量設備，它主要用于實時監(jiān)測流體（如空氣、水或其他液體）中顆粒的數(shù)量、大小以及粒徑分布。工作原理主要基于激光散射、光衍射或其他光學原理。當激光束照射到流經傳感器的流體中的...
2024
10-08

高壓微射流均質機是如何實現(xiàn)均質和分散過程的？
高壓微射流均質機利用高壓技術將流體物質細化成微小的射流，并通過高速運動的射流實現(xiàn)混合和均質化的目的。具體來說，它通過高壓氣體將液體樣品從微小的噴頭噴出，形成微小射流，在高速氣流中快速破碎、剪切、撞擊和...
2024
09-21

想了解清潔度檢測儀的技術特點嗎？不妨看看這里！
清潔度檢測儀（或稱為清潔度測試儀、清潔度分析儀）是一種用于檢測工業(yè)制造過程中零件、設備、油品及其他材料表面清潔度的儀器。通過測量待測物體表面殘留的污染物，如顆粒、油脂、金屬切屑、微生物（如ATP含量）...
2024
09-19

清潔度檢測儀在維護方面，你了解多少？
清潔度檢測儀（或稱為清潔度測試儀、清潔度分析儀）是一種用于檢測工業(yè)制造過程中零件、設備、油品及其他材料表面清潔度的儀器。通過測量待測物體表面殘留的污染物，如顆粒、油脂、金屬切屑、微生物（如ATP含量）...
2024
09-13

高壓微射流均質機在哪些領域的應用比較廣泛？
高壓微射流均質機主要用于處理各種液體、半固體以及懸浮液，通過高壓和微射流技術來實現(xiàn)這些物質的均勻混合、細化分散、均質化以及乳化等效果。工作原理是利用高壓泵將物料送入微射流均質腔中，在高速噴射和撞擊的作...
2024
08-30

為什么檢測CMP研磨液的Large Particle Count（LPC）如此重要？
摘要：化學機械拋光（CMP）是半導體制造中關鍵的平坦化工藝，而控制研磨液中的大顆粒計數(shù)（LPC）對確保晶圓表面質量和提高產品良率至關重要。隨著工藝向更小納米級發(fā)展，對LPC的檢測精度要求更高。文章討論...
2024
08-22

過濾效率檢測儀也是需要進行定期檢查的
過濾效率檢測儀是一種專門用于測量和評估過濾材料或過濾器對顆粒物、氣溶膠等污染物過濾效率的儀器。它廣泛應用于材料科學、紡織科學技術、安全科學技術、空氣凈化、醫(yī)療、制藥、食品、電子、化工等多個領域。過濾效...

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