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詳細摘要： 該渦旋器小巧、經濟、實用，適合電鏡樣品的組織滲透過程。轉速緩慢，大約為10轉/分鐘。含12個孔位，可放置直徑大至30mm的瓶子。尺寸： 底座： 10.2 x 15.6cm （4 x 6-1/8“） 渦旋頭： （產品編號1058） 15.9cm（直徑）x 2.7cm（高），12個孔位 （32mm ø）

詳細摘要： 產品編號描述單位8702PELCO®玻璃刀制刀機臺8702-3制刀機切輪個8702-4制刀機斷裂墊個

詳細摘要： JY-S100 PLUS離子濺射儀（噴金儀）是一款桌上型冷態磁控濺射鍍膜系統，標配旋轉傾斜樣品臺，特別適用于各種表面形貌的非導電樣品在掃描電鏡成像中的高質量鍍膜，也可滿足電極鍍膜，半導體等材料鍍膜的要求。

詳細摘要： Y-S100噴金儀是一款結構緊湊的桌面小型磁控鍍膜系統，特別適用于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜。在掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備中，JY-S100噴金儀在不同類型的樣品，如生物標本和材料樣品制備中發揮著至關重要的作用。

詳細摘要： 輝光放電儀用于TEM銅網和支持膜清洗及表面處理，可改善親水性和疏水性。適用于經常需要清洗銅網和支持膜，或需要大批量清洗的實驗室。

詳細摘要： QuickGlow輝光放電儀是經濟實惠、易于使用、放電穩定的一款國產輝光放電儀，其常見的應用之一是用于TEM載網表面的親水化處理，使得極性懸浮液在載網上更容易擴散，減少顆粒團聚，提高染色劑的附著效果，使樣品的對比度更高，圖像更清晰，便于分析。

詳細摘要： PELCO精密研磨裝置適合在金相試樣、單晶片、電子材料、玻璃、巖石或其他材料樣品上制備平面、平行面等高度拋光的表面。研磨硬質材料時，先用環氧樹脂等包埋樣品，可以避免圓角或過度拋光，特別適用于手工磨拋半導體、光學元件，以及凹坑前TEM樣品的減薄。PELCO研磨裝置可用于研磨直徑3mm至25mm、厚度不超過13mm的樣品。

詳細摘要： 廣州競贏離子濺射儀全國誠招代理廣州競贏成立于2007一直以來專業從事代理和銷售國內外品牌的各類電鏡耗材及電鏡附屬設備，客戶涉及高校、科研院所、企業、政府部門等多個領域。憑借著優異的產品和服務為廣州市公安局、廣東醫附院、復旦大學、華南理工大學、中山大學、電子五所、哈爾濱工業大學、貴州大學等等國內各地域客戶建立起良好的供銷關系。

詳細摘要： PELCO easiGlow輝光放電清潔儀是一套價格合理、結構緊湊、使用方便的系統，用于TEM銅網和支持膜清洗及表面處理。如親油性的TEM碳支持膜經氣體輝光放電處理后，表面帶負電而呈親水性，水溶液因此容易被分散。

詳細摘要： 此款小型離子濺射鍍膜儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合SEM 制樣*的儀器。設備配有微量充氣閥調節工作真空，在 20Pa 真空保護。同時，配有進氣口和微量充氣調節裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

詳細摘要： PELCO Tripod Polisher 590由IBM East Fishkill實驗室的研究人員設計，以準確地制備預先的微米尺度區域的透射電鏡和掃描電鏡樣品。對于TEM樣品，該技術已成功地用于將離子研磨時間限制在15分鐘以內，并且在某些情況下，消除了離子研磨的需要。

詳細摘要： Sanyu 離子濺射儀SC-701MKll是一款結構緊湊的桌上型鍍膜系統，特別適用于電極鍍膜，也可用于掃描電鏡成像中非導電樣品鍍膜。

詳細摘要： NLS-AT 全自動振動切片機是一款全自動振動切片機，其底盤采用全新的設計，引入了減震基座，其機身也由塑料改為不銹鋼體，以盡可能的消除由于共振而產生的異常振動。有了這些改進，Neo LinearSlicer 可以切出比以往更薄、更高質量的切片。

詳細摘要： 脈沖激光沉積系統PLD：脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition）是一種用途廣泛的薄膜沉積技術。脈沖激光快速蒸發靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。

詳細摘要： ALD R-200原子層沉積系統：高質量ALD薄膜的沉積技術，并在各種各樣的襯底上都表現的均勻性，包括挑戰性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。

詳細摘要： 多參數表面等離子體共振分析儀MP-SPR Navi 200 OTSO：半自動MP-SPR Navi™ 200 OTSO。開放式設計非常適合用于教學目的、氣體測量、薄膜表征以及使用輔助設備。