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NRE-4000（ICPA）全自動ICP刻蝕系統：自動上下載片，帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統，系統可以達到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果。可實...
NDR-4000（M）DRIE深反應離子刻蝕：是帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺的深硅刻蝕系統，帶8“ ICP源。系統配套500L/S抽速的渦輪分子泵，可以使得工藝...
NDR-4000（A）全自動DRIE深反應離子刻蝕：全自動上下載片，帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺的深硅刻蝕系統，帶8“ ICP源。系統配套500L/S抽速的渦輪...
NRE-4000（ICPM）ICP刻蝕系統：是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統，系統可以達到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果。可實現范圍廣泛的刻蝕工...
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