磁控濺射技術(shù)

NSC-4000NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(zui高可加熱到700度)功能，zui大到8"旋轉(zhuǎn)平臺，zui大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

NSC-4000帶有13”鋁質(zhì)腔體，4個2”的磁控管，DC直流和RF射頻電源。 在選配方面，我們提供不銹鋼腔體，500 l/s渦輪分子泵，額外的磁控管和襯底加熱功能。

NSC-4000NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)品特點：

• 不銹鋼，鋁質(zhì)腔體
• 260或500 l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵
• 13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
• 晶振夾具具有的<1 Å的厚度分辨率
• 帶觀察視窗的腔門易于上下載片
• 基于LabView軟件的PC計算機控制
• 帶密碼保護功能的多級訪問控制
• *的安全聯(lián)鎖功能

選配項：

• 不銹鋼腔體
• 熱蒸鍍能力
• RF、DC濺射
• RF或DC偏壓（1000V）
• 樣品臺可加熱到700°C
• 膜厚監(jiān)測儀
• 基片的RF射頻等離子清洗
• 預(yù)真空鎖以及自動晶圓片上/下載片

應(yīng)用：

• 晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆
• 光學(xué)以及ITO涂覆
• 帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
• 帶RF射頻等離子放電的反應(yīng)濺射