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NSC-1000磁控濺射系統

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具體成交價以合同協議為準

產品型號

品       牌

廠商性質生產商

所  在  地國外

更新時間:2017-03-03 10:56:12瀏覽次數:1355次

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NSC-1000磁控濺射系統:帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到6“旋轉平臺,Z大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

磁控濺射技術

NSC-1000磁控濺射系統概述:帶有水冷或者加熱(zui高可加熱到700度)功能,zui大到6"旋轉平臺,zui大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

NSC-1000帶有10"派熱克鐘罩腔體,22"的磁控管,DC直流電源用于濺射金屬,并帶有膜厚監測儀(選配)。由于NSC-1000的空間有限,我們不能在NSC-1000系統上提供更多的電源和磁控管。我們可以提供我們的NSC-1000系統,用于SEM應用,也可以用于濺射金屬到zui大6"的晶圓片。

NSC-1000磁控濺射系統產品特點:

  • 不銹鋼,鋁質腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
  • 70l/s的渦輪分子泵,串接機械泵或干泵
  • 1KW DC直流電源
  • 晶振夾具具有的<1 Å的厚度分辨率
  • 帶觀察視窗的腔門易于上下載片
  • 基于LabView軟件的PC計算機控制
  • 帶密碼保護功能的多級訪問控制
  • *的安全聯鎖功能

選配項:

  • Thickness Monitor   膜厚監測

應用:

  • SEM應用
  • 濺射金屬,zui大到6"的晶圓片

 

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