SWC-4000兆聲晶圓清洗：

SWC-4000兆聲晶圓清洗機(jī)應(yīng)用：

• 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
• Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
• CMP處理后的晶圓片清洗
• 晶圓框架上的切粒芯片清洗
• 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
• 帶保護(hù)膜的分劃版清洗
• 掩模版空白部位或接觸部位清洗
• X射線及極紫外掩模版清洗
• 光學(xué)鏡頭清洗
• ITO涂覆的顯示面板清洗
• 兆聲輔助的剝離工藝

SWC-4000兆聲晶圓清洗機(jī)的特點(diǎn)：

• 支持12"直徑的圓片或9"x9"方片
• 獨(dú)立系統(tǒng)
• 無損兆聲,試劑，毛刷清洗及旋轉(zhuǎn)甩干
• 微處理機(jī)自動控制
• 化學(xué)試劑滴膠單元
• 溶劑與酸分離排廢
• 熱氮
• 30"D x 26"W 的占地面積

SWC-4000兆聲晶圓清洗機(jī)選配項(xiàng)：

• 掩模板或晶圓片夾具
• 臭氧清洗
• PVA軟毛刷清洗
• 高壓DI清洗
• 氮?dú)怆x子發(fā)生器

客戶可以根據(jù)基板尺寸的大小訂制不同的兆聲清洗系統(tǒng)，如有技術(shù)咨詢，請及時：