18721247059
當前位置：德國韋氏納米系統（香港）有限公司>>紫外掩膜對準曝光系統>>紫外掩膜對準曝光系統>> NXQ4000紫外掩膜對準曝光系統
美國NXQ以的性能，經濟的價格，深受用戶喜愛，截至2016年底，超過5000臺NXQ曝光系統遍布*科研實驗室，研發中心。
NXQ4000系列半自動掩膜對準曝光系統，融合了獨立的模塊化設計，精準控制對準和曝光等特點，自動程序控制使得該系統易于操作存儲和使用，適合實驗室多用戶使用。
該系統特點：
鍥型誤差補償系統----*的WEC設計
紫外燈源的多樣性選擇
曝光光路的精準控制
視像分辨技術------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切換
高效對準控制-----可選配IR或OBS雙面對準
使用領域（包括但不限于下述領域的光刻工藝）
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
以上信息由企業自行提供，信息內容的真實性、準確性和合法性由相關企業負責，化工儀器網對此不承擔任何保證責任。
溫馨提示：為規避購買風險，建議您在購買產品前務必確認供應商資質及產品質量。
化工儀器網