當前位置:德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司>>紫外掩膜對準曝光系統(tǒng)>>紫外掩膜對準曝光系統(tǒng)>> Model 659光刻曝光分析儀
產地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
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應用領域 | 電子 |
45年來,OAI始終是紫外能量測試儀器領域的*應用商,其儀器用于半導體、微機電系統(tǒng)、晶圓封裝和晶圓植球行業(yè)中光刻工藝的可靠,精確校準控制。
Model 659是一款手持式紫外功率計,配有觸摸屏和 USB 接口。通過使用特殊探頭(365nm、400nm、420nm 和 436nm),可以測量主要用于步進應用的寬范圍波長。
● 多達400個曝光參數
● 以太網和USB接口,用于下載記錄的測量值
● 強度范圍達7500mW/cm2
● 強度分辨率:0.01mW/cm2
● 探頭波長:365nm、400nm、420nm、436nm
Model 659 型曝光分析儀,與晶圓步進光刻機配合使用,專為Ultratech Stepper等高強度光刻設備而設計(讀數高達7500mW/cm2,1000000mJ/cm2'',最長9999秒)。可選擇探頭光譜響應:365nm、400nm、420nm或436nm.
OAI擁有完整的認證校準實驗室,以確保儀器的性能,質量,和可靠性。Model 659 可追溯至NIST標準。
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