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德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司

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等離子刻蝕ICP

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First-Nano: 刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

薄膜測(cè)量系統(tǒng): 接觸角測(cè)量系統(tǒng) 橢偏儀光譜反射儀薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)

半自動(dòng)引線鍵合機(jī): WB-200 半自動(dòng)引線鍵合機(jī)

Etching刻蝕系統(tǒng): ICP低溫刻蝕離子銑離子束刻蝕等離子反應(yīng)離子刻蝕

Deposition沉積系統(tǒng): AT-400原子層沉積 PLD脈沖激光沉積 PA-MOCVD等離子輔助 ALD原子層沉積系統(tǒng) PECVD等離子化學(xué)氣相沉積系 Sputter磁控濺射系統(tǒng) E-Beam電子束蒸發(fā) 熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)鍍膜離子束刻蝕濺射鍍膜一體機(jī) 光學(xué)元件原子級(jí)拋光鍍膜設(shè)備

Megasonic Clean /兆聲清洗系統(tǒng): 單片晶圓兆聲清洗機(jī) 批量型兆聲清洗系統(tǒng)

Harrick等離子清洗機(jī): 基本型等離子清洗機(jī) 擴(kuò)展型等離子清洗機(jī) 高功率等離子清洗機(jī) 等離子清洗機(jī)真空泵氣體流量混合器

測(cè)量?jī)x器: 聲表面波SAW功率發(fā)生器

PIE 等離子清洗機(jī): PDC-32G 等離子清洗機(jī) Tergeo-plus 等離子清洗機(jī) Tergeo / 旋風(fēng)等離子清洗機(jī)

Hall Effect: HMS-3300霍爾效應(yīng)測(cè)試儀 HMS-3000霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

QCM/石英晶體微分析儀: 石英晶體微分析儀

Etching/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Thin Film薄膜沉積系統(tǒng): 高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) PECVD沉積磁控濺射系統(tǒng) 高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀

美國(guó)杜邦Dupont: EKC270蝕刻殘留物去除劑 EKC265蝕刻殘留物去除劑

Ethcing/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Probe station/探針臺(tái): 磁體探針臺(tái) 低溫探針臺(tái)

Reflow Oven /回流焊: 高真空MEMS焊封機(jī)

紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng): 紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng) 紫外掩膜曝光機(jī)

快速退火爐: 快速退火爐

生命科學(xué): 人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀

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等離子刻蝕ICP廠家提供詳細(xì)的適用范圍,能力信息。

　　等離子刻蝕ICP具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

　　等離子刻蝕ICP可適用于單個(gè)基片或帶承片盤的基片(3”- 300mm尺寸)，為實(shí)驗(yàn)室和試制線生產(chǎn)環(huán)境提供的刻蝕能力。它也具有多尺寸批處理功能(4x3”; 3x4”; 7x2”)。

　　系統(tǒng)有多達(dá)七種工藝氣體可以用于刻蝕各種薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、鋁、砷化鎵、鉻、銅、磷化銦和鈦。該反應(yīng)室還可以用于去除光刻膠和有機(jī)材料。可選配靜電吸盤(E-chuck)，以便更有效地在刻蝕工藝中讓基片保持冷卻。該E-chuck使用氦壓力控制器，及在基片背面保持一個(gè)氦冷卻層，從而達(dá)到控制基片溫度的作用。

　　可選配一個(gè)電感耦合等離子(ICP)源，其使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而提高刻蝕速率和各向異性等刻蝕性能。

　　基片通過預(yù)真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而隔絕外部濕氣，防止反應(yīng)室內(nèi)可能發(fā)生的腐蝕。

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