13912363467
當前位置:北京吉泰遠成科技有限公司>>技術文章>>水熱合成法原理和操作
水熱合成法原理和操作
一、原理:水熱合成是什么?
水熱合成是指:溫度為100~1000℃、壓力為1MPa~1GPa條件下利用水溶液中物質化學反應所進行的合成。在亞臨界和超臨界水熱條件下,由于反應處于分子水平,反應性提高,因而水熱反應可以替代某些高溫固相反應。
利用高溫高壓的水溶液使那些在大氣條件下不溶或難溶的物質溶解,并且重結晶而進行無機合成與材料處理的一種有效方法。
反應過程的驅動力是zui后可溶的前驅體或中間產物與zui終產物之間的溶解度差,即反應向吉布斯焓減小的方向進行。
二、水熱生長體系中的晶粒形成可分為三種類型:
水熱合成法分類
1)水熱氧化:高溫高壓水、水溶液等溶劑與金屬或合金可直接反應生長性的化合物。 例如:M+[0]——MxOy
2)水熱沉淀:某些化合物在通常條件下無法或很難生成沉淀,而在水熱條件下卻生成新的化合物沉淀。 例如:KF+MnCI2——KMnF2
3)水熱合成:可允許在很寬的范圍內改變參數,使兩種或兩種以上的化合物起反應,合成新的化合物。例如:FeTiO3+K0H——K20•nTiO2
4)水熱還原:一些金屬類氧化物、氫氧化物、碳酸鹽或復鹽用水調漿,無需或只需極少量試劑,控制適當溫度合氧分壓等條件,即可制得超細金屬粉體。例如:MexOy+Hz——xMe+yHzO其中Me為銀、銅等
5)水熱分解:某些化合物在水熱條件下分解成新的化合物,進行分離而得單一化合物超細粉體。例如:ZrSiO4+NaOH——ZrO2+NaSiO3
6)水熱結晶:可使一些非晶化合物脫水結晶。例如:AI(OH)3——Al203•H20
三、具體過程
基本設備:水熱合成反應釜
具體流程:
(1)選擇反應前驅物,確定反應前驅物的計量比。
(2)摸索前驅物加入順序,混料攪拌。
(3)裝釜、封釜、置入烘箱。
(4)確定反應溫度、時間、狀態進行反應。
(5)取釜、冷卻(空氣冷或水冷)、取樣。
(6)過濾、洗滌、干燥。
四、水熱合成法與核殼結構
水熱法合成 CdS /ZnO核殼結構納米微粒
具體合成過程:以半胱氨酸鎘配合物為前驅體 , 采用水熱法合成 CdS納米微粒 , 再以 ZnO 對其進行表面修飾 , 形成具有核/殼結構的 CdS /ZnO 半導體納米微粒。CdS納米微粒表面經 ZnO 修飾后 , 其帶邊發射大大增強。透射電鏡顯示 , 110℃下反應 4 h所得的 CdS / ZnO 顆粒尺寸約為 20 nm, 電子衍射表明其結構為六方相。
五、水熱合成法的具體應用
1.制備超細(納米)粉末
2.制備薄膜
3.其他應用
5.1 制備超細(納米)粉末
制備金屬氧化物超微粉因金屬鐵在潮濕空氣中氧化非常慢,但是把這個氧化反應置于水熱條件下,氧化速度非常快,要得到幾十到100nm左右的Fe304;,只要把金屬鐵在98MPa,40℃的水熱條件下反應1小時即可。
水熱法制備納米二氧化錫微粉:納米SnO2具有很大的比表面積,是一種很好的氣皿和濕皿材料。水熱法制備納米氧化物微粉有很多優點,如產物直接為晶體,無需經過焙燒凈化過程,因而可以減少其它方法難以避免的顆粒團聚,同時粒度比較均勻,形態比較規則。
5.2 水熱法制備BaTiO3薄膜
利用Sol-gel法等其他濕化學方法來制備多晶薄膜,灼燒工藝過程則是*的,在這一過程中易造成薄膜開裂、脫落等缺陷。水熱法目前主要用于制備多晶薄膜,其原因在于它不需要高溫灼燒處理來實現由無定形向結晶態的轉變。
制備具體過程:以拋光的鈦金屬片襯底或沉積鈦的玻璃襯底作為陽極,Pt 金屬片作為陰極,以Ba(OH)2 水溶液為前驅物,通過兩電極,經100~200 ℃的水熱處理,得到了表面無宏觀缺陷,呈金屬光澤的BaTiO3 薄膜。
在襯底上形成穩定結晶相薄膜
5.3 其他應用
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
以上信息由企業自行提供,信息內容的真實性、準確性和合法性由相關企業負責,化工儀器網對此不承擔任何保證責任。
溫馨提示:為規避購買風險,建議您在購買產品前務必確認供應商資質及產品質量。