PE電感耦合等離子光譜儀 ICP 8000

擁有突破性的功能和擴展功能，Optima 8000 不僅僅是全球Z受青睞的 ICP-OES 的技術革新。它是一場技術革命。
Optima 8000 繼續延續 PerkinElmer 在 ICP 技術方面的z越成就和領xian地位，秉承一貫的設計，提供**的分辨率和線性動態范圍。更重要的是，8000 的穩定性和檢出限是以往任何ICP 儀器都無法企及的。

基于可靠的 Optima 平臺設計，在業界領xian的 Windows 7 兼容 WinLab32 軟件的控制下，8000 將令您對 ICP-OES 刮目相看。 該系列的超凡性能是通過優化進樣系統、增強等離子穩定性、簡化方法建立和大大降低操作成本的zui*技術 實現的。

各個實驗室對z大化利用 ICP 的定義均大不相同。但是，無論您優先考慮的是精密度還是可靠性、是靈活性還是穩定性、是分析速度還是使用的簡便性，您都可以在 Optima 8000系列中找到理想的解決方案。

PE電感耦合等離子光譜儀 ICP 8000

使用平板等離子體技術降低氬氣消耗

利用 PerkinElmerZL的平板等離子體技術，氬氣消耗只有螺旋負載線圈系統的一半，即可形成同樣強健、同樣耐高鹽基體的等離子體。這種全新的射頻發生方式，可使射頻發生器免維護，從而zui*程度上降低操作成本，同時不影響性能。平板等離子體技術在任意RF功率下只需 8 公升/分鐘的等離子體氣流量。

使用 eNeb 樣品導入系統可實現 2 到 4 倍的更佳檢出限

使用革新的 eNeb（電子噴霧器）系統，樣品可地更有效、更GX地導入 Optima 中。基于精密制造的惰性噴霧頭，eNeb 可形成直徑不超過 6 微米的大小一致的液滴。這些大小一致的小液滴可更快速地干燥、霧化和電離，達到的檢出限比使用其他樣品導入系統可達到的檢出限好 2 到 4 倍。

eNeb 的噴霧頭采用堅固耐用的惰性聚合物制成，提供良好的基體相容性、耐酸性和精確性，是所有樣品類型（包括含有高鹽的樣品類型）的理想選擇。

高級光學系統確保的檢出限

為了增強光輸出量，Optima 儀器上的光學系統提供的檢測限，更容易滿足美國 EPA、EN 和 DIN 規定。使用 DynamicWavelength Stabilization（型號 8000）可確保非凡穩定性和分析準確性。

ZL的等離子雙向觀測提GX率

可以使用同一種方法測量高濃度和低濃度的元素，從而提高處理量和效率。

軸向觀測提供zuidi的檢出限，而徑向觀測的觀測高度可變，可擴充工作范圍和消除電離效應。

*的切割氣消除了干擾

這項革新技術通過消除離子的冷尾焰消除了干擾。由于它使用的是空氣，而不是氣體流量極大的抽風系統或者易于阻塞需要清洗的接口錐，尾焰切割系統免維護，可提高性能并使線性動態范圍更大。消除尾焰也從zui*程度上降低了添加昂貴的電離YZ劑的需要。

可快速更換的可調節一體化炬管組件可簡化維護并優化性能

Optima 一體化炬管組件易于調節（無需工具），即使當 ICP 在運行時也如此，便于優化性能，甚至是對于最難的樣品亦如此。為增加靈活性，該儀器與各種噴霧器和噴霧室兼容，包括 eNeb、Scott/Cross Flow 和 Cyclonic/Meinhard 多種選擇。