目錄:上海西努光學科技有限公司>>工業顯微鏡>>鏡片反射率測定儀>> USPM-RUⅢ鏡片反射率測定儀
| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 電子 |
|---|
USPM-RUⅢ鏡片反射率測定儀的特點：
1、消除背面反射光
采用特殊光學系，消除背面反射光。不必進行背面的防反射處理，可正確測定表面的反射率。
2、可測定微小領域的反射率
用對物鏡對焦于小區域（φ60μm），可測定鏡片曲面以及鍍膜層斑點。
3、測定時間短
使用Flat Field Grating（平面光柵）和線傳感器的高速分光測定，可迅速實現再現性很高的測定。
4、XY色度圖、L*a*b測定可能
以分光測定法為基準，從分光反射率情況可測定物體顏色。
5、可測定的Hard Coat（高強度鍍膜）膜厚
用于涉光分光法，可以不接觸、不破壞地測定被測物的膜厚（單層膜）。
USPM-RUⅢ鏡片反射率測定儀主要用途：
1、各種透鏡（眼鏡透鏡、光讀取透鏡等）
2、反射鏡、棱鏡以及其他鍍膜部品等的分光反射率、膜厚測定（單層膜）
| 規格 | |
| 測定波長 | 380 nm～780 nm |
| 測定方法 | 與參照樣本的比較測定 |
| 被檢物N.A. | 0.12（使用10×物鏡時） 0.24（使用20×物鏡時） * 與物鏡的N.A.不同 |
| 被檢物W.D. | 10.1 mm（使用10×物鏡時） 3.1 mm（使用20×物鏡時） |
| 被檢物的曲率半徑 | -1R ～-∞、+1R～∞ |
| 被檢物的測定范圍 | 約ø60 μm（使用10×物鏡時） 約ø30 μm（使用20×物鏡時） |
| 測定再現性（2σ） | ±0.1%（380 nm～410 nm測定時） ±0.01%（410 nm～700 nm測定時） |
| 顯示分辨率 | 1 nm |
| 測定時間 | 數秒～十幾秒（因取樣時間而異） |
| 光源規格 | 鹵素燈 12 V 100 W |
| 載物臺Z方向驅動范圍 | 85mm |
| PC接口 | USB方式 |
| 裝置重量 | 機身：約20 kg（PC、打印機除外） 光源用電源：約3 kg 控制器盒：約8 kg |
| 裝置尺寸 | 機身： 300（W）×550（D）×570（H） mm 光源用電源： 150（W）×250（D）×140（H） mm 控制器盒： 220（W）×250（D）×140（H） mm |
| 電源規格 | 光源用電源： 100 V（2.8 A）/220 V AC 控制器盒： 100V（0.2A）/220V AC |
| 使用環境 | 水平且無振動的地方 溫度： 23±5 °C 濕度： 60%以下、無結露 |
本裝置不保證溯源體系中的精度。
可以特別訂做測定波長440 nm～840 nm規格。
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