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| 產地類別 | 進口 |
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光致變色鏡片光譜分析儀
主光譜儀：
用于記錄鏡片在輻照條件下的透過率變化情況
測量范圍：200-850nm
測量間隔：≤1nm
記錄模式：實時
輸出數據：280-780nm加權
光致變色鏡片光譜分析儀
次光譜儀：
用于測量模擬太陽光的輻照強度和能量分布
測量范圍:200-850nm
測量間隔:≤1nm
記錄模式：實時
輸出單位：LUX和µW/cm2
太陽光模擬裝置
光源：短弧氙燈
透鏡組：AM2濾光片，衰減片，截止片等
快門：機械快門用于控制輻照時間
輻照能量密度要求：
恒溫測試腔滿足不同溫度條件下的測量
常用溫度:5ºC, 23ºC 或35ºC
波動范圍：±2ºC（模擬太陽光照射下）
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