砷化鎵微光顯微鏡

原理

微光顯微鏡（Emission Microscope, EMMI）是利用高增益相機/探測器來檢測由某些半導體器件缺陷/失效發出的微量光子的一種設備。

當對樣品施加適當電壓時，其失效點會因加速載流子散射或電子-空穴對的復合而釋放特定波長的光子。這些光子經過收集和圖像處理后，就可以得到一張信號圖。撤去對樣品施加的電壓后，再收集一張背景圖，把信號圖和背景圖疊加之后，就可以定位發光點的位置，從而實現對失效點的定位。

砷化鎵微光顯微鏡

四、應用范圍

（1）LED故障分析；

（2）太陽能電池評估；

（3）半導體失效分析；

（4）EL/PL圖像采集；

（5）光通信設備分析。

偵測到亮點的情況：

會激發光子的缺陷：P-N接面漏電或崩潰、因開路或短路而誤動作的電晶體、閂鎖效應、閘極氧化層漏電、細絲殘留的多晶硅、硅基底的損害、燒毀的元件假缺陷(正常操作即會激發光子)。

假缺陷(正常操作即會激發光子)：浮接狀態的閘極、飽和區操作中的BJT或MOSFET、順向偏壓的二極體。

偵測不到光子的情形：

光激發位置被上方層次擋到、歐姆接觸、埋入式的接面、大面積金屬線底下的漏電位置、電阻性短路或橋接、金屬連接短路(有時仍會被EMMI偵測到)、表面導通路徑、硅導通路徑、漏電過小(<0.1uA)。

某芯片廠需對其產品的電極圖案進行評估，進行LED芯片發光均勻度測試。測試后發光效果如圖一所示，圖中芯片下面兩個焊點連接負極，上面兩個焊點連接正極，最右邊為亮度刻度，從圖中可明顯看出芯片的發光不均勻，區域1的亮度明顯過高；相反地，區域2的LED量子阱卻未被充分激活，降低了芯片的發光效率。對此，建議可以適當增加區域1及其對稱位置的電極間距離或減小電極厚度來降低區域1亮度，也可以減少區域2金手指間距離或增加正中間正極金手指的厚度來增加區域2亮度，以達到使芯片整體發光更加均勻的目的。

案例分析二：

某芯片公司測試發光均勻度，測試后效果圖如圖二所示。圖中芯片左邊兩個電極為負極，右邊兩個電極為正極，對比最右邊的亮度刻度，可以看出，芯片整體發光比較均勻，但仍然美中不足。

其中，區域1、2的電流擴展性不夠，需提高其電流密度，建議延長最近的正電極金手指，使電流擴展程度增加，提升發光均勻度。區域3金手指位置的亮度稍微超出平均亮度，可減少金手指厚度來改善電流密度，或者改善金手指的MESA邊緣聚積現象，兩種方法均能減少區域3亮度。另外，也可以增加區域3外的金手指厚度，使區域3外金手指附近的電流密度增加，提升區域3外各金手指的電流密度，以上建議可作為發光均勻度方面的改善，以達到使芯片整體發光更加均勻的目的。

在達到或超過了芯片整體發光均勻度要求的前提下，可考慮減小金手指厚度來減少非金屬電極的遮光面積，以提升亮度。甚至，可以為了更高的光效犧牲一定的金手指長度和寬度。