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江西瑞威爾生物科技有限公司
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當(dāng)前位置:江西瑞威爾生物科技有限公司>>瑞威爾試劑>>精品化學(xué)試劑>> 13360-57-1二甲胺基磺酰氯有機(jī)化合物

二甲胺基磺酰氯有機(jī)化合物

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號13360-57-1

品       牌MREDA

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地吉安市

更新時間:2022-02-22 11:46:55瀏覽次數(shù):526次

聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)
供貨周期 一周 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,建材,紡織皮革
主要用途 有機(jī)合成、醫(yī)藥合成中間體,用于制備丁苯和藥物利尿酸、強(qiáng)痛定及中間體2-乙基-1
英文名稱Methanedisulfonic Acid,Disodium Salt
分子式NaSO3CH2SO3Na  CAS號:5799-70-2
分子量220.12       含量:99%以上
性狀白色粉末
包裝25Kg  加厚鐵桶,內(nèi)襯塑封袋

醫(yī)藥中間體,有機(jī)催化劑;廣泛應(yīng)用在電鍍硬鉻和裝飾鉻工藝中。可以明顯提高電流效率,改善鍍液對陽極板的腐蝕,鍍出的產(chǎn)品表面更光亮、鍍層硬度更高、微裂紋數(shù)更多,具有更高的耐腐蝕性;在電鍍裝飾鉻中,可提高沉積速度以及鍍液分散能力。

一、以固體形式直接使用:

1、在電鍍硬鉻工藝中直接添加甲基二磺酸鈉的優(yōu)點(diǎn)

1)陰極電流效率高,可達(dá)23-26%

2)沉積速度快,是一般普通電鍍鉻的2-3倍。

3)無陰極低電流區(qū)腐蝕。

4)鍍層平滑,結(jié)晶細(xì)致光亮。

5)高鍍層硬度,可達(dá)HV900-1150

6)微裂紋可達(dá)400-800/厘米。

7)鍍層厚度均勻,無高電流區(qū)沉積過厚。

8)可使用高電流密度,可達(dá)90安培/平方分米。

9)鍍液維護(hù)簡單,操作容易。

10)無陽極腐蝕,不需采用特殊陽極(建議使用含錫量7%-10%鉛錫合金)

2、鍍液配方和操作工藝

1)清洗鍍槽

2)注入去離子水

3)加入所需量的鉻酐220-250g/L

4)甲基二磺酸鈉添加量,按每升鍍液添加5g,用溫水稀釋入槽

項目最佳范圍
鉻酐(CrO250g/L  220270g/L
硫酸(H2SO4 2.7g/L   2.53g/L
三價鉻(Cr3+)2.5g/L25g/L
甲基二磺酸鈉(開缸)5g/L4-6g/L
陰極電流密度 60A/dm23090A/ dm2
溫度57 5565 
陰陽極面積比1213
甲基二磺酸鈉(補(bǔ)加每補(bǔ)加1公斤鉻酐同時補(bǔ)加8克。

5)加入去離子水、調(diào)節(jié)至規(guī)定液面

6)硫酸濃度2.5-3.0g/L

7)加熱至55-60

8)適當(dāng)電解產(chǎn)生三價鉻

9)加入適宜的鉻霧抑制劑

10)試鍍

3、槽液補(bǔ)加

日常補(bǔ)加按每添加50公斤鉻酐同時添加0.4公斤甲基二磺酸鈉。

二、如何用甲基二磺酸鈉為主要原料配制高效硬鉻添加劑

(一)、高效硬鉻添加劑配制方法(以配制100公斤硬鉻添加劑為例:)

去離子水:79.5公斤
甲基二磺酸鈉:(純度 99%):17公斤
甲基二磺酸(50%)1公斤(可選)
對甲苯磺酸:1.5公斤
碘化鉀1公斤

 (二)高效硬鉻添加劑使用說明

工藝特點(diǎn)

1、不含氟元素,不含稀土,對陽極和鍍件不鍍部位不產(chǎn)生腐蝕作用。

2、陰極電流效率高,可達(dá)2530%,節(jié)電一半左右。

3、光亮電流密度范圍寬,可使用高達(dá)90安培/平方分米以上。

4、沉積速度快、節(jié)電、省工、省時、降低成本。

5、鍍層結(jié)晶細(xì)致光亮,與基體結(jié)合力強(qiáng);鍍層硬度高,Hv硬度達(dá)1000以上。

6、鍍層裂紋數(shù)高,可控制在4001000/厘米,因而提高產(chǎn)品的耐磨性和耐蝕性。

7、鍍液覆蓋能力強(qiáng)、深鍍能力好、鍍層均勻。

8、鍍液穩(wěn)定,添加劑消耗少,抗雜質(zhì)性能強(qiáng),易于操作維護(hù)。

配方和工藝條件

項目最佳范圍
鉻酐(CrO250g/L  220~300g/L
硫酸(H2SO4) 2.7g/L 2~4g/L
三價鉻(Cr3+)2.5g/L  2~5g/L
鍍鉻添加劑(開缸)25ml /L20~30ml/L
陰極電流密度60A/dm230~80A/ dm2
溫度57℃ 55~65℃
陰陽極面積比1:2~1:3
鍍鉻添加劑(補(bǔ)加)每補(bǔ)加一公斤鉻酐同時補(bǔ)加50毫升

鍍液配制

1、將鍍槽洗凈并加入鍍槽體積2/3去離子水或蒸餾水,加熱到50℃將所需鉻酐溶解。

2、補(bǔ)加去離子水或蒸餾水至所需體積。

3、取樣分析鍍液中硫酸含量并調(diào)至工藝規(guī)定范圍。

4、加入硬鉻添加劑并攪均勻。

5、可適當(dāng)加入鉻霧抑制劑。

6、用10/平方分米電流電解56個小時,使鍍液達(dá)平衡狀態(tài)后便可開鍍。

說明

1、陽極可用含銻6%鉛銻合金板或含錫812%的鉛錫合金板。

2、定期分析CrOH2SO4Cr3+的含量,并調(diào)整至工藝范圍。

3、若使用周期換向電源,電流密度可進(jìn)一步提高。

沉積速度參考數(shù)據(jù)

電流密度(安/平方分米)沉積速度(微米/小時)
302540
454060
606075
757590

我們只生產(chǎn)鍍鉻中間體,不生產(chǎn)鍍鉻添加劑!所有數(shù)據(jù),包括配方均是真實(shí)的。我們相信其準(zhǔn)確性,但不保證其準(zhǔn)確性。我們強(qiáng)烈建議客戶在自己的試驗(yàn)室或設(shè)備上進(jìn)行試驗(yàn)來確認(rèn)!


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