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GSL-1800X-ZF2蒸發鍍膜儀主要應用于大專院校、科研機構、企業實驗室及進行微小產品真空鍍膜工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產的單位。在蒸發鍍膜過程中樣品臺可以進行旋轉，使蒸發的薄膜材料在樣品表面均勻分布。配有兩組蒸發單元，一個鎢舟，一個鎢絲籃；鎢舟中可以放粉末狀的薄膜材料，鎢絲籃中可以放條狀或塊狀薄膜材料。控制屏采用7英寸TFT顯示屏顯示操作界面，TFT式顯示屏具有高響應度、高亮度、高對比度等優點，觸屏操作，實現全圖形化界面，易用易懂。是高真空的蒸發鍍膜設備，真空度可達3.0×10-4torr。

特點：
1、采用桌面小型一體化結構，將真空腔體、鍍膜電源及控制系統進行整合設計，體積與一臺A3打印機相仿。
2、采用電阻式雙蒸發源結構，可快速實現蒸發源的轉換。蒸發單元中裝有兩組蒸發電極可安裝不同的蒸發源，適應相應的鍍膜材料。
3、配有0.1%精度蒸發電源，并具有恒流輸出功能，對蒸發舟能起到很好的保護作用。
4、可選配石英晶體膜厚控制儀，在鍍膜過程中對鍍膜速率和膜層厚度進行控制。
5、可將采集到的鍍膜數據保存到U盤，便于用戶分析控制（選配）。
6、本機將所有功能設計成標準化模塊，根據用戶不同的需求對相應模塊進行組合，以達到優秀的鍍膜環境，并便于用戶維修與維護。
7、操作控制采用7英寸TFT顯示屏顯示操作界面，觸屏操作，實現全圖形化界面，易用易懂。