該摩擦機是為LCD研發實驗室開發的。該系統旨在追蹤聚酰亞胺上的凹槽以定向液晶分子。凹槽使用深度為幾埃的特殊摩擦布制成。基板由真空吸盤保持，真空吸盤包括真空泵并與系統集成。HO-IAD-BTR-02型中可裝載的玻璃基板的大尺寸為200mm直徑。基板和真空卡盤被固定在旋轉臺上，以便在不同的摩擦方向上以±20度的任何所需角度旋轉和定位。

該系統被開發為一個獨立單元，其中主軸的速度和基板的速度可以變化。

特性

● 可傾斜調整，以調平基板。

● 可用于調整高度的垂直平臺。

● 真空釋放按鈕

主要參數

● 基板平臺

a) 電動線性平臺

b) 步進電機驅動

c) 行程: 300 mm

d) 小速度: 0.05 mm / s

大速度: 6 mm / s

e) 可移動基材的大尺寸: 直徑200mm

f) 基板固定在可旋轉+/-45度的旋轉臺上

g) 可選項： 可選擇配置基材加溫卡盤，可加熱到155度。

●摩擦輪執行器: 無刷直流電機帶速度控制

大速度: 3000 rpm

小速度: 0 rpm

● 在液晶顯示屏上顯示速度

● 通過旋鈕來控制主軸的速度

● 電源輸入: 230 VAC

● 該系統可以在獨立模式下使用

儀器體積小，可直接放置于實驗臺面。