當前位置:> 供求商機> YC2-N-200-高精度摩擦機
該摩擦機是為LCD研發實驗室開發的。該系統旨在追蹤聚酰亞胺上的凹槽以定向液晶分子。凹槽使用深度為幾埃的特殊摩擦布制成。基板由真空吸盤保持,真空吸盤包括真空泵并與系統集成。HO-IAD-BTR-02型中可裝載的玻璃基板的大尺寸為200mm直徑。基板和真空卡盤被固定在旋轉臺上,以便在不同的摩擦方向上以±20度的任何所需角度旋轉和定位。
該系統被開發為一個獨立單元,其中主軸的速度和基板的速度可以變化。
特性
● 可傾斜調整,以調平基板。
● 可用于調整高度的垂直平臺。
● 真空釋放按鈕
主要參數
● 基板平臺
a) 電動線性平臺
b) 步進電機驅動
c) 行程: 300 mm
d) 小速度: 0.05 mm / s
大速度: 6 mm / s
e) 可移動基材的大尺寸: 直徑200mm
f) 基板固定在可旋轉+/-45度的旋轉臺上
g) 可選項: 可選擇配置基材加溫卡盤,可加熱到155度。
●摩擦輪執行器: 無刷直流電機帶速度控制
大速度: 3000 rpm
小速度: 0 rpm
● 在液晶顯示屏上顯示速度
● 通過旋鈕來控制主軸的速度
● 電源輸入: 230 VAC
● 該系統可以在獨立模式下使用
儀器體積小,可直接放置于實驗臺面。
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