OTL1200-1200雙溫區PECVD系統，由OTL1200真空管式爐、石英真空室、射頻電源、GX供氣系統、抽氣系統、真空測量系統組成。  

OTL1200-1200雙溫區PECVD系統主要特點：  

1、通過射頻電源把石英真空室內的氣體變為離子態。  

2、PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積所需的溫度更低。  

3、可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應力大小。  

4、PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高。  

5、廣泛應用于：各種薄膜的生長，如：SiOx,SiNx,SiOxNy和無定型硅(a-Si:H)等。  

OTL-PECVD-1200-1200雙溫區PECVD系統以瑞典Kanthal電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和30段程序控溫儀表，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用日本進口氧化鋁多晶纖維材料，爐管兩端能不銹鋼法蘭密封，不銹鋼法蘭上安裝有氣嘴、閥門和壓力表，抽真空時真空度能夠達到10-3Pa，具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能、*等優點。  

(1)、表面溫度高可達1420℃  

(2)、表面為不銹鋼色（非常亮、客戶識別時要注意）、不會生銹，使用時間再長都不會掉渣。  

(3)、Kanthal電阻絲資料下載  

(4)、Kanthal電阻絲網站

(5)、電阻均衡、溫場均衡性好  

當電路過流或漏電時，空開會自動斷開。  

爐配有通訊接口和軟件，可以直接通過電腦控制爐子的各個參數，并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運行情況，爐子的實際升溫曲線電腦會實時繪出，并能把每個時刻的溫度數據保存起來，隨時可以調出  

1、真空吸濾成型的優質高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛。  

2、采用日本技術成型。  

3、爐膛里電阻絲的間距和節距全部按日本*的熱工技術布置、經過熱工軟件模擬溫場  

4、采用4周加熱，溫場更加均衡