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半導體晶圓紫外線（UV）臭氧清洗設備
| 波長 | 185納米、254納米 |
|---|---|
| 目的 | 清潔/修改 |
| 行業 | 半導體制造 |
| 待安裝設備 | 半導體清洗設備 |
UV照射設備用于清洗半導體晶圓。紫外線照射會產生臭氧，去除晶圓表面的有機物。半導體晶圓紫外臭氧清洗設備可用于原型/開發和批量生產。原型機和開發機是半自動的，生產能力低，而量產機是自動化機。
UV照射設備采用185nm和254nm汞燈作為光源。當185nm紫外線被氧氣吸收時，產生臭氧（O3）并產生活性氧。
這個應用程序用過的解決問題的例子
更換晶圓周邊曝光光源，成本降低30%以上
目的
接觸
行業
半導體制造
設備
涂布機開發商
波長
365nm
任務
初始成本和運行成本降低
