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德國Hellma CeBr3晶體材料發射光譜峰值在370 nm在高能物理、核醫學、石油勘探、環境監測、安全檢查等領域有廣泛應用。
德國豪瑪Hellma CaF2晶體材料廣泛應用于多種領域,包括紅外光學、天文儀器、空間光學、顯微鏡光學、光譜學、紫外光學、激光窗口、準分子激光光學以及微光刻光學...
HELLMA 110-QS-40比色皿用于光譜學測量HELLMA比色皿以其較高的品質和精確度,在科研和工業分析領域享有很高的聲譽
德國HELLMA比色皿110-QX-10適用于近紅外范圍QX 表示窗口使用的是純度和均勻度高、不含 OH 吸收的 “擴展范圍石英玻璃“。
德國HELLMA比色皿110-QS-40用于光譜分析和細胞測量我們還采用了功能優化設計,邊緣和邊角都經過倒角處理,可防止因裂開而造成的損壞風險,有助于用戶的日常...
德國HELLMA比色皿110-QS-10透射率超過82%QS 表示使用的是純度和均勻度高的 “高性能石英玻璃“
德國HELLMA比色皿105.200-QS-10為熱粘合帶PE瓶塞我們的比色皿窗口質量高,平面度公差優于 0.001 毫米(1 μm)。
德國HELLMA比色皿100-QX-5便于操作并降低碎裂風險使用Hellma比色皿,您可以獲得更好的操作性、出色的重現性和可靠的測量結果
德國HELLMA比色皿100-QS-20光路長度和平行度精度高Hellma Analytics 是紫外/可見吸收和熒光測量比色皿/電池制造商
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